| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-16页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·光刻工艺概述 | 第7-9页 |
| ·电子束光刻技术及其邻近效应校正技术 | 第9-15页 |
| ·论文内容及其安排 | 第15-16页 |
| 第二章 电子在固体中散射的基本原理 | 第16-21页 |
| ·电子散射的作用机理 | 第16页 |
| ·电子散射的散射截面 | 第16-18页 |
| ·弹性散射物理模型 | 第18-19页 |
| ·非弹性散射的物理模型 | 第19-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第三章 电子束光刻工艺的Monte Carlo模拟 | 第21-36页 |
| ·Monte Carlo方法概述 | 第21-22页 |
| ·电子散射过程的Monte Carlo模拟 | 第22-26页 |
| ·散射电子的空间坐标及其转换 | 第26-30页 |
| ·显影剖面轮廓的计算机模拟 | 第30-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 邻近效应校正的计算机模拟与实验 | 第36-62页 |
| ·电子束光刻工艺模拟流程图 | 第36-38页 |
| ·邻近效应的计算机模拟与实验 | 第38-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 总结 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第69页 |