| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 第一章 引言 | 第6-14页 |
| ·光刻基本原理 | 第6-8页 |
| ·光刻技术的发展 | 第8-12页 |
| ·本文研究的主要内容和方向 | 第12-14页 |
| 第二章 光刻工艺流程及特点 | 第14-29页 |
| ·光刻胶介绍 | 第14-23页 |
| ·光刻工艺流程 | 第23-29页 |
| 第三章 光刻工艺中的Lens heating 问题 | 第29-36页 |
| ·投影式光刻介绍 | 第29-32页 |
| ·Lens heating 产生的原因及影响 | 第32-33页 |
| ·减小Lens heating 的方法 | 第33-36页 |
| 第四章 光刻胶粉尘污染引起的球状缺陷问题 | 第36-39页 |
| ·光刻工艺中的球状缺陷产生因素的猜想 | 第36-37页 |
| ·球状缺陷产生因素的验证方法 | 第37-38页 |
| ·球状缺陷的解决方法 | 第38-39页 |
| 第五章 利用表面抗反射剂去除光刻工艺过程中的显影缺陷 | 第39-47页 |
| ·显影缺陷的分类与成因 | 第39页 |
| ·光刻胶表面残留缺陷影响因素及其验证方法 | 第39-45页 |
| ·残留缺陷的解决方法 | 第45-47页 |
| 第六章 结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49页 |