| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-8页 |
| 第一节 选题背景 | 第6-7页 |
| 第二节 研究意义 | 第7-8页 |
| 第二章 项目管理一般理论综述 | 第8-18页 |
| 第一节 项目管理的意义 | 第8-9页 |
| 第二节 项目管理的发展现状和特点 | 第9-10页 |
| 第三节 项目管理的基本内容 | 第10-18页 |
| 第三章 项目管理在半导体光刻部门的应用 | 第18-23页 |
| 第一节 半导体代工企业现状简介 | 第18-19页 |
| 第二节 半导体光刻工艺流程及主要光刻图形缺陷 | 第19-22页 |
| 第三节 项目管理在光刻部门的应用 | 第22-23页 |
| 第四章 0.15微米工艺光刻图形缺陷攻关项目的管理实施 | 第23-43页 |
| 第一节 0.15微米工艺光刻图形缺陷攻关项目特点分析 | 第23-24页 |
| 第二节 0.15微米工艺光刻图形缺陷攻关项目范围管理 | 第24-30页 |
| 第三节 0.15微米工艺光刻图形缺陷攻关项目风险评估 | 第30-35页 |
| 第四节 0.15微米工艺光刻图形缺陷攻关项目进度管理 | 第35-40页 |
| 第五节 0.15微米工艺光刻图形缺陷攻关项目成本管理 | 第40-42页 |
| 第六节 0.15微米工艺光刻图形缺陷攻关项目结束 | 第42-43页 |
| 第五章 0.15微米工艺光刻图形缺陷攻关项目总结 | 第43-46页 |
| 第一节 0.15微米工艺光刻图形缺陷攻关项目的成果和价值 | 第43-44页 |
| 第二节 项目管理的在半导体企业的局限性和展望 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |
