用于无掩膜刻蚀的微小等离子体反应器的工艺制备和性能测试
| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-17页 |
| ·微小等离子体反应器 | 第6-12页 |
| ·微小等离子体反应器概述 | 第6-9页 |
| ·微小等离子体放电过程的尺度效应 | 第9-10页 |
| ·微小等离子体反应器发展和应用 | 第10-12页 |
| ·局域等离子体刻蚀技术 | 第12-14页 |
| ·论文研究目的和意义 | 第14-15页 |
| ·论文主要研究内容及结构 | 第15-17页 |
| 第二章 微小等离子体反应器的结构尺寸优化 | 第17-27页 |
| ·微小等离子体反应器特征尺寸 | 第17-18页 |
| ·微小等离子体反应器基本结构模型 | 第18-20页 |
| ·微小等离子体反应器结构分析 | 第20-26页 |
| ·微放电器功能材料尺寸的作用 | 第20-23页 |
| ·绝缘层中气泡的作用 | 第23页 |
| ·倒金字塔特征尺寸的作用 | 第23-24页 |
| ·倒金字塔特征和平面微放电器的区别 | 第24页 |
| ·结构仿真总结 | 第24-26页 |
| ·本章总结 | 第26-27页 |
| 第三章 微小等离子体反应器的工艺制备 | 第27-41页 |
| ·微小等离子体反应器工艺概述 | 第27-28页 |
| ·金属图形化工艺 | 第28-34页 |
| ·图像反转剥离工艺 | 第29-33页 |
| ·阴极负胶剥离工艺 | 第33-34页 |
| ·PI 制备及刻蚀工艺 | 第34-40页 |
| ·PI 工艺研究 | 第35-39页 |
| ·PI 性能研究 | 第39页 |
| ·PI 性能研究总结 | 第39-40页 |
| ·本章总结 | 第40-41页 |
| 第四章 微小等离子体反应器的性能测试 | 第41-54页 |
| ·微小等离子体反应器测试系统 | 第41-45页 |
| ·微放电器夹持支架 | 第41-42页 |
| ·微放电器电学性能测试部分 | 第42-43页 |
| ·光谱性能测试部分 | 第43-45页 |
| ·测试系统总结 | 第45页 |
| ·微小等离子体反应器测试结果及分析 | 第45-53页 |
| ·电学性能测试分析 | 第46-51页 |
| ·光谱性能测试 | 第51页 |
| ·刻蚀性能 | 第51-52页 |
| ·器件破坏分析 | 第52-53页 |
| ·本章总结 | 第53-54页 |
| 第五章 总结与展望 | 第54-57页 |
| ·总结 | 第54-55页 |
| ·论文研究内容总结 | 第54-55页 |
| ·论文创新性总结 | 第55页 |
| ·展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
