光刻机粗精耦合及同步控制算法研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| ·课题背景 | 第9-11页 |
| ·光刻机的国内外研究现状分析 | 第11-12页 |
| ·控制系统整体构成 | 第12-15页 |
| ·本文研究内容 | 第15-17页 |
| 第2章 控制系统模型建立 | 第17-28页 |
| ·控制系统动力学模型及化简 | 第17-19页 |
| ·直线电机子系统动力学模型建立 | 第19-20页 |
| ·动平台模块动力学模型分析与建立 | 第20-21页 |
| ·定平台模块动力学模型分析与建立 | 第21-23页 |
| ·耦合模型建立及解耦方法研究 | 第23-25页 |
| ·运动控制方法的选择 | 第25-27页 |
| ·位置环控制方法 | 第25-26页 |
| ·前馈控制的引入 | 第26页 |
| ·扰动观测器的引入 | 第26-27页 |
| ·耦合控制方法研究 | 第27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第3章 粗精控制策略及仿真分析 | 第28-54页 |
| ·控制策略概述 | 第28-29页 |
| ·控制系统中电机选择 | 第29-32页 |
| ·粗通道直线直流电机 | 第29-31页 |
| ·精通道音圈电机 | 第31-32页 |
| ·控制策略研究 | 第32-36页 |
| ·PID参数整定方法 | 第33-34页 |
| ·转速电流双闭环直流调速系统的设计 | 第34-35页 |
| ·粗精控制方法研究 | 第35-36页 |
| ·仿真结果分析 | 第36-42页 |
| ·光刻机控制系统的若干实际问题研究 | 第42-53页 |
| ·精密工件台的振动抑制 | 第42-46页 |
| ·精密工件台的抗扰性研究 | 第46-51页 |
| ·电机的发热控制 | 第51页 |
| ·控制系统的防磁研究 | 第51页 |
| ·满足于控制要求的机械系统指标提出 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第4章 粗精控制中耦合作用控制算法研究 | 第54-65页 |
| ·耦合控制系统常规控制精度影响因素分析 | 第54-56页 |
| ·耦合系统状态空间模型建立 | 第56页 |
| ·控制系统的理论基础 | 第56-64页 |
| ·最优控制器的设计准则 | 第56-57页 |
| ·最优控制仿真研究 | 第57-59页 |
| ·LQG/LTR控制器设计方法研究 | 第59-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第5章 同步控制仿真研究 | 第65-70页 |
| ·同步控制概述 | 第65页 |
| ·交叉控制策略及ASML同步控制 | 第65-67页 |
| ·交叉同步控制策略 | 第65-66页 |
| ·ASML同步控制策略 | 第66-67页 |
| ·以工件台为主，掩模台为辅的同步控制策略 | 第67-69页 |
| ·本章小节 | 第69-70页 |
| 结论 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-77页 |
| 附录 | 第77-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 个人简历 | 第80页 |
