极紫外投影光刻掩模若干问题研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-20页 |
| ·研究背景 | 第11-18页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·EUVL 掩模技术的发展历程 | 第12-16页 |
| ·EUVL 掩模技术发展现状 | 第16-18页 |
| ·研究目的 | 第18页 |
| ·论文的构成 | 第18-19页 |
| 参考文献 | 第19-20页 |
| 第2章 EUVL 掩模技术概述 | 第20-28页 |
| ·引言 | 第20页 |
| ·EUVL 掩模基底 | 第20-22页 |
| ·EUVL 掩模的多层膜技术 | 第22-24页 |
| ·多层膜的反射光谱 | 第22-23页 |
| ·掩模白板的缺陷 | 第23-24页 |
| ·EUVL 掩模图形成型技术 | 第24-25页 |
| ·用于EUVL 掩模检测技术 | 第25-26页 |
| ·小结 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-28页 |
| 第3章 多层膜与照明误差 | 第28-46页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·用于EUVL 掩模的多层膜 | 第28-38页 |
| ·极紫外波段的光学常数 | 第28-31页 |
| ·极紫外薄膜理论 | 第31-35页 |
| ·粗糙度对多层膜反射特性的影响 | 第35-36页 |
| ·周期厚度对多层膜反射特性的影响 | 第36-37页 |
| ·比值对多层膜反射特性的影响 | 第37-38页 |
| ·照明误差分析 | 第38-43页 |
| ·掩模反射光谱与相对照明强度 | 第39-41页 |
| ·掩模引入的照明误差 | 第41-42页 |
| ·需要实现的目标 | 第42-43页 |
| ·反射率测量装置 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-46页 |
| 第4章 膜厚均匀性控制技术 | 第46-65页 |
| ·引言 | 第46-47页 |
| ·离子溅射理论 | 第47-50页 |
| ·被溅射原子的空间分布 | 第50页 |
| ·均匀性控制实验 | 第50-59页 |
| ·离子束溅射镀膜 | 第50-51页 |
| ·均匀性实验研究 | 第51-59页 |
| ·多层膜膜厚的测量 | 第59-63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-65页 |
| 第5章 EUVL 掩模的缺陷策略 | 第65-78页 |
| ·引言 | 第65页 |
| ·EUVL 掩模的缺陷 | 第65-68页 |
| ·缺陷的分类 | 第65-66页 |
| ·缺陷的复制能力 | 第66-67页 |
| ·缺陷的平滑与消除 | 第67-68页 |
| ·缺陷实验研究 | 第68-73页 |
| ·人为制造缺陷 | 第69-71页 |
| ·多层膜在缺陷上的沉积实验 | 第71-73页 |
| ·缺陷检测技术 | 第73-76页 |
| ·掩模基底的缺陷检测 | 第73-74页 |
| ·掩模白板的缺陷检测 | 第74-76页 |
| ·吸收图形的检测技术 | 第76页 |
| ·小结 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-78页 |
| 第6章 结束语 | 第78-80页 |
| ·研究工作总结 | 第78-79页 |
| ·创新点 | 第79页 |
| ·研究工作展望 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 论文发表 | 第81-82页 |
| 杨雄个人简历 | 第82-83页 |
