| 第一章 绪论 | 第1-27页 |
| §1．1 研究背景 | 第18-25页 |
| 1．1．1 引言 | 第18-19页 |
| 1．1．2 光刻技术的发展历程及现状 | 第19-25页 |
| §1．2 研究目的 | 第25页 |
| §1．3 论文的构成 | 第25页 |
| 参考文献 | 第25-27页 |
| 第二章 极紫外投影光刻（EUVL）中的关键技术 | 第27-47页 |
| §2．1 引言 | 第27页 |
| §2．2 EUVL中的关键技术 | 第27-43页 |
| 2．2．1 极紫外（EUV）光源技术 | 第27-33页 |
| 2．2．2 微缩投影光学系统 | 第33-34页 |
| 2．2．3 掩模照明光学系统 | 第34-36页 |
| 2．2．4 光学加工与检测技术 | 第36-39页 |
| 2．2．5 EUV多层膜技术 | 第39-40页 |
| 2．2．6 反射式掩模技术 | 第40-41页 |
| 2．2．7 抗蚀剂技术 | 第41-42页 |
| 2．2．8 精密工件台技术 | 第42-43页 |
| §2．3 小结 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-47页 |
| 第三章 EUVL原理装置的设计 | 第47-71页 |
| §3．1 引言 | 第47-48页 |
| §3．2 Schwarzschild微缩投影物镜 | 第48-59页 |
| 3．2．1 Schwarzschild微缩投影物镜的光学设计 | 第48-53页 |
| 3．2．2 Schwarzschild微缩投影物镜偏心及镜间距公差 | 第53-59页 |
| 3．2．3 Schwarzschild微缩投影物镜的机械结构设计 | 第59页 |
| §3．3 掩模和硅片精密工作台的设计 | 第59-62页 |
| §3．4 EUV光源和掩模照明光学系统 | 第62-69页 |
| 3．4．1 激光等离子体（LPP）光源的设计 | 第62-65页 |
| 3．4．2 掩模照明光学系统设计 | 第65-69页 |
| §3．5 小结 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-71页 |
| 第四章 微缩投影物镜的多层膜反射镜性能评价 | 第71-92页 |
| §4．1 引言 | 第71页 |
| §4．2 多层膜反射镜基底加工精度的影响 | 第71-85页 |
| 4．2．1 面形精度的影响 | 第72-76页 |
| 4．2．2 中频波纹度的影响 | 第76-85页 |
| §4．3 EUV多层膜设计与制备 | 第85-90页 |
| §4．4 小结 | 第90-91页 |
| 参考文献 | 第91-92页 |
| 第五章 EUVL原理装置的集成 | 第92-112页 |
| §5．1 引言 | 第92页 |
| §5．2 Schwarzschild微缩投影物镜的光学装调 | 第92-109页 |
| 5．2．1 光学装调精度要求 | 第92页 |
| 5．2．2 光学装调步骤 | 第92-93页 |
| 5．2．3 Schwarzschild微缩投影物镜的光学粗装调 | 第93-96页 |
| 5．2．4 Schwarzschild微缩投影物镜计算机辅助装调的步骤 | 第96-98页 |
| 5．2．5 EUVL微缩投影光学系统计算机辅助装调的数学模型 | 第98-101页 |
| 5．2．6 Schwarzschild微缩投影物镜的计算机辅助装调 | 第101-109页 |
| §5．3 LPP光源及掩模照明系统的装调 | 第109-110页 |
| 5．3．1 EUVL原理装置的组成 | 第109-110页 |
| 5．3．2 LPP光源及掩模照明系统的装调步骤 | 第110页 |
| §5．4 小结 | 第110-111页 |
| 参考文献 | 第111-112页 |
| 第六章 EUV掩模复制曝光实验 | 第112-119页 |
| §6．1 引言 | 第112页 |
| §6．2 EUVL用抗蚀剂的选择 | 第112-114页 |
| 6．2．1 EUV抗蚀剂的作用原理及通用性 | 第112页 |
| 6．2．2 ZEP520正性抗蚀剂 | 第112-114页 |
| §6．3 EUVL透射掩模 | 第114-115页 |
| §6．4 曝光实验方法及结果 | 第115-118页 |
| §6．5 小结 | 第118页 |
| 参考文献 | 第118-119页 |
| 第七章 EUV多层膜膜厚空间分布控制技术 | 第119-126页 |
| §7．1 引言 | 第119-120页 |
| §7．2 EUV多层膜膜厚空间分布控制原理 | 第120-122页 |
| 7．2．1 磁控溅射原理 | 第120页 |
| 7．2．2 磁控溅射工艺的膜厚空间分布 | 第120-121页 |
| 7．2．3 多层膜膜厚空间分布的控制方法 | 第121-122页 |
| §7．3 磁控溅射镀膜装置的研制和均匀多层膜的制备 | 第122-124页 |
| 7．3．1 磁控溅射镀膜装置的研制 | 第122-123页 |
| 7．3．2 均匀多层膜的制备 | 第123-124页 |
| §7．3 小结 | 第124-125页 |
| 参考文献 | 第125-126页 |
| 第八章 结束语 | 第126-128页 |
| §8．1 本文研究工作的主要进展 | 第126-127页 |
| §8．2 研究工作展望 | 第127-128页 |
| 作者简历 | 第128-129页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文目录 | 第129页 |
