| 目录 | 第1-7页 |
| 中文摘要 | 第7-9页 |
| English Abstract | 第9-13页 |
| 大纲 | 第13-15页 |
| 第一章 纳米光刻技术 | 第15-25页 |
| ·纳米科技的定义 | 第15-16页 |
| ·纳米科技的分类 | 第16-20页 |
| ·纳米电子学 | 第16-17页 |
| ·纳米光学 | 第17-18页 |
| ·纳米材料学 | 第18页 |
| ·纳米机械 | 第18-19页 |
| ·纳米生物学 | 第19-20页 |
| ·用于纳米科技加工的纳米光刻技术 | 第20-23页 |
| ·极紫外光刻技术(EUVL) | 第21-22页 |
| ·电子束光刻技术(EBL) | 第22页 |
| ·纳米压印光刻技术(NIL) | 第22-23页 |
| ·近场光刻技术(NFL) | 第23页 |
| ·小结 | 第23-25页 |
| 第二章 用于新型化学放大胶的电子束光刻 | 第25-42页 |
| ·电子束光刻简介 | 第25-29页 |
| ·电子束曝光机系统 | 第25-27页 |
| ·几种常见的电子束曝光系统 | 第27-29页 |
| ·化学放大胶 | 第29-32页 |
| ·化学放大胶的光刻工艺 | 第30-31页 |
| ·几种常用的化学放大胶 | 第31-32页 |
| ·UV1116的电子束光刻特性 | 第32-40页 |
| ·UV1116的对比度和灵敏度 | 第33-36页 |
| ·UV1116的分辨率 | 第36-40页 |
| ·UV1116的抗干腐蚀性 | 第40页 |
| ·小结 | 第40-42页 |
| 第三章 利用电子束直写进行材料表面改性 | 第42-51页 |
| ·生物干细胞的"命运"理论 | 第42-43页 |
| ·用电子束直写曝光的方式对HSQ薄膜进行表面改性 | 第43-47页 |
| ·使用电子束曝光固化HSQ薄膜 | 第44页 |
| ·电子束曝光固化HSQ薄膜的表面硬度研究 | 第44-47页 |
| ·利用坐标定位法对材料进行电子束改性 | 第47-48页 |
| ·以材料改性为基础的人骨髓干细胞培养研究 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 用电子束光刻的方法制作光子准晶纳米透镜 | 第51-65页 |
| ·前言 | 第51页 |
| ·使用UVN-30制备纳米准光子晶体的电子束光刻 | 第51-55页 |
| ·一种用于新型纳米透镜的自对准纳米光刻工艺 | 第55-63页 |
| ·新型纳米准晶透镜的结构设计 | 第55-56页 |
| ·自对准纳米光刻工艺流程设计 | 第56-60页 |
| ·工艺流程设计1 | 第56-58页 |
| ·工艺流程设计2 | 第58-60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-63页 |
| ·电子束光刻结果 | 第60-62页 |
| ·双层光刻胶间牺牲层 | 第62页 |
| ·干法刻蚀结果讨论 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 第五章 利用电子束光刻技术制作用于其他纳米光刻技术的纳米结构 | 第65-79页 |
| ·前言 | 第65-66页 |
| ·用UⅧ光刻胶制作纳米压印光栅模板的电子束光刻 | 第66-71页 |
| ·纳米压印简介 | 第66页 |
| ·光栅简介 | 第66-67页 |
| ·制作纳米压印光栅模板的电子束光刻技术 | 第67-71页 |
| ·用于手性材料纳米压印模板制备的电子束光刻 | 第71-75页 |
| ·电子束光刻图形设计 | 第72-73页 |
| ·电子束光刻工艺流程 | 第73-75页 |
| ·用电子束光刻制备近场光刻掩模板 | 第75-78页 |
| ·近场光刻简介 | 第75-76页 |
| ·使用电子束曝光制备近场光刻掩模板 | 第76-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 第六章 纳米压印、热压印和紫外固化压印光刻 | 第79-101页 |
| ·纳米压印光刻技术的分类 | 第79-82页 |
| ·在SU-8光刻胶中压印含有手性单元的光子晶体结构 | 第82-88页 |
| ·SU-8光刻胶简介 | 第82-83页 |
| ·含有手性单元的光子晶体超材料 | 第83-84页 |
| ·对含有手性单元的光子晶体结构的纳米压印工艺 | 第84-88页 |
| ·对含有手性单元的光子晶体超材料的光学特性研究 | 第88-96页 |
| ·对含有手性单元的光子晶体超材料的衍射研究 | 第88-92页 |
| ·对衍射图形的模拟研究 | 第88-90页 |
| ·对衍射图形的实验研究 | 第90页 |
| ·对衍射图形的具体数值研究 | 第90-92页 |
| ·对含有手性单元的光子晶体超材料的手性特征研究 | 第92-96页 |
| ·线性偏振调制为椭圆偏振特性的研究 | 第93-94页 |
| ·偏振光主轴方向偏转的研究 | 第94-96页 |
| ·反射性金属手性光子晶体的制备和测量 | 第96-97页 |
| ·在石英衬底上含有金属材料手性单元的光子晶体结构的制备 | 第97-100页 |
| ·小结 | 第100-101页 |
| 第七章 纳米光学光刻法——结合近场光刻与纳米反压印实现大面积纳米光刻 | 第101-121页 |
| ·近场光学与近场光刻 | 第101-103页 |
| ·近场光学 | 第101-102页 |
| ·近场光刻 | 第102-103页 |
| ·近场光刻中光场分布的模拟 | 第103-108页 |
| ·近场光刻实验 | 第108-109页 |
| ·纳米反压印光刻工艺 | 第109-114页 |
| ·纳米反压印光刻工艺简介 | 第109-111页 |
| ·利用纳米反压印转移光刻胶和金属图形 | 第111-114页 |
| ·利用纳米反压印光刻工艺转移近场光刻图形 | 第114-120页 |
| ·向平整性衬底的纳米反压印转移工艺 | 第115-117页 |
| ·向光纤截面转移图形的纳米反压印工艺 | 第117-119页 |
| ·实验结果初步测量 | 第119-120页 |
| ·小结 | 第120-121页 |
| 第八章 总结与未来展望 | 第121-125页 |
| ·全文总结 | 第121-122页 |
| ·未来展望 | 第122-125页 |
| 参考文献 | 第125-129页 |
| 发表论文列表 | 第129-133页 |
| 致谢 | 第133-135页 |
