相位光栅对准技术研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-10页 |
| §1.1 引言 | 第7页 |
| §1.2 光刻对准技术研究进程 | 第7-9页 |
| §1.3 本论文研究的主要内容和意义 | 第9-10页 |
| 第二章 相位光栅对准技术原理与特性分析 | 第10-18页 |
| §2.1 激光外差干涉对准 | 第10-12页 |
| §2.2 纳米全息对准 | 第12-13页 |
| §2.3 相位光栅TTL对准 | 第13-14页 |
| §2.4 ATHENA离轴对准 | 第14-15页 |
| §2.5 SBA对准 | 第15页 |
| §2.6 SMASH对准 | 第15-18页 |
| 第三章 相位光栅对准系统 | 第18-26页 |
| §3.1 相位光栅对准技术原理 | 第18页 |
| §3.2 相位光栅对准系统结构 | 第18-20页 |
| §3.3 标记的对准信号 | 第20-23页 |
| §3.4 离焦和倾斜的影响 | 第23-25页 |
| §3.5 光学系统像差的影响 | 第25-26页 |
| 第四章 相位光栅对准标记衍射光强参数分析 | 第26-37页 |
| §4.1 一级衍射光强分布 | 第26页 |
| §4.2 槽深的影响 | 第26-28页 |
| §4.3 占空比的影响 | 第28-29页 |
| §4.4 反射率的影响 | 第29-37页 |
| 第五章 非对称对准标记的衍射效率和对准误差 | 第37-52页 |
| §5.1 非对称对准标记计算模型 | 第37-38页 |
| §5.2 矩形对准标记 | 第38-40页 |
| §5.3 CMP型对准标记 | 第40-48页 |
| §5.4 金属淀积型标记 | 第48-50页 |
| §5.5 非对称变形标记的对准信号 | 第50-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-55页 |
