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利用激光直写制作灰度掩模技术研究

第一章 引言第1-17页
   ·衍射光学元件第6-7页
   ·DOE的制作技术第7-9页
     ·传统的机械方法第7-8页
     ·二元光学方法第8页
     ·直写技术第8-9页
   ·GSM技术第9-15页
     ·GSM技术国外发展情况第10-14页
     ·GSM技术国内发展情况第14-15页
   ·本章小结第15-17页
第二章 菲涅耳透镜衍射效率及其设计第17-24页
   ·菲涅耳波带(FZP)透镜的标量衍射理论第17-21页
   ·设计方法第21-23页
   ·本章小结第23-24页
第三章 GSM法制作DOE过程的模拟及衍射效率分析第24-53页
   ·模拟GSM技术原理第24-25页
   ·激光直写GSM制作DOE第25-33页
     ·HEBS玻璃第25-26页
     ·激光直写GSM工艺流程第26-29页
     ·显影过程分析第29-32页
     ·产生的误差来源第32-33页
   ·菲涅耳透镜制作过程模拟及衍射效率分析第33-52页
     ·掩模曝光量和对应DOE面形模拟第33-40页
     ·刻蚀深度误差对衍射效率的影响第40-44页
     ·线宽误差对菲涅耳透镜衍射效率的影响第44-50页
     ·用Q因子估算菲涅耳透镜侧壁倾斜误差第50-52页
   ·本章小结第52-53页
第四章 总结与展望第53-56页
   ·总结第53页
   ·展望第53-56页
参考文献第56-62页
致谢第62-63页
个人简历第63-64页
发表论文第64页

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