| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第1章 引言 | 第9-25页 |
| ·课题背景和研究意义 | 第9-12页 |
| ·国内外研究现状 | 第12-22页 |
| ·本文主要研究内容 | 第22-24页 |
| 本章小结 | 第24-25页 |
| 第2章 利用导波耦合角度实时控制光刻胶光栅的占宽比 | 第25-43页 |
| 本章引言 | 第25-26页 |
| ·占宽比控制原理 | 第26-33页 |
| ·显影监测理论分析 | 第33-35页 |
| ·占宽比实时监控实验 | 第35-41页 |
| ·讨论 | 第41-42页 |
| 本章小结 | 第42-43页 |
| 第3章 介质膜光栅离子束刻蚀图形演变 | 第43-58页 |
| 本章引言 | 第43-44页 |
| ·LKJ-IC-150 型离子束刻蚀机简介 | 第44-45页 |
| ·介质膜光栅离子束刻蚀工艺实验 | 第45-49页 |
| ·实验结果 | 第49-57页 |
| 本章小结 | 第57-58页 |
| 第4章 介质膜光栅离子束刻蚀实时终点监控 | 第58-77页 |
| 本章引言 | 第58页 |
| ·实时监测系统 | 第58-61页 |
| ·槽形演变模型简化和衍射效率理论计算 | 第61-64页 |
| ·离子束刻蚀实时监测结果 | 第64-71页 |
| ·结果分析和实时终点判断 | 第71-74页 |
| ·双波长监测结果 | 第74-76页 |
| 本章小结 | 第76-77页 |
| 第5章 结论和展望 | 第77-80页 |
| ·论文工作总结 | 第77-78页 |
| ·光栅制作展望和下一步工作 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第89页 |