| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 引言 | 第7-10页 |
| 1 多孔InP的制备过程 | 第10-13页 |
| ·InP单晶材料的基本性能 | 第10-11页 |
| ·电化学刻蚀的准备过程 | 第11页 |
| ·实验装置和实验条件 | 第11-13页 |
| 2 电化学刻蚀方法制备多孔InP结果分析与讨论 | 第13-19页 |
| ·电化学刻蚀InP的结果分析 | 第13-17页 |
| ·多孔结构形成机理的讨论 | 第17-19页 |
| 3 电化学刻蚀过程中的电流震荡现象 | 第19-25页 |
| ·典型的电流震荡现象 | 第19-22页 |
| ·电压变化对电流震荡现象的影响 | 第22-25页 |
| 4 电化学刻蚀过程中的侧蚀现象 | 第25-28页 |
| 结论 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-31页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第31-32页 |
| 致谢 | 第32-33页 |
| 大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第33页 |