| 摘要 | 第1-11页 |
| ABSTRACT | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| ·硅的各向异性湿法腐蚀研究现状 | 第12-16页 |
| ·国外研究现状 | 第12-15页 |
| ·国内研究现状 | 第15-16页 |
| ·湿法腐蚀在微纳结构中的应用概况 | 第16-19页 |
| ·硅微结构器件 | 第16-18页 |
| ·硅纳米结构及其阵列 | 第18-19页 |
| ·本文研究的背景、内容及意义 | 第19-22页 |
| ·研究背景 | 第19-20页 |
| ·研究内容及意义 | 第20-22页 |
| 第二章 硅的晶体结构与湿法腐蚀 | 第22-34页 |
| ·硅的晶体结构 | 第22-25页 |
| ·晶面 | 第22-23页 |
| ·晶向 | 第23-24页 |
| ·硅的晶体结构 | 第24-25页 |
| ·硅的湿法腐蚀 | 第25-29页 |
| ·各向同性湿法腐蚀 | 第26页 |
| ·各向异性湿法腐蚀 | 第26-28页 |
| ·湿法腐蚀需考虑的问题 | 第28-29页 |
| ·湿法腐蚀机理与化学模型 | 第29-32页 |
| ·化学键密度模型 | 第29-30页 |
| ·Seidel 模型 | 第30-31页 |
| ·Elwenspoek 模型 | 第31-32页 |
| ·实验工艺流程和方案 | 第32-33页 |
| ·工艺流程 | 第32页 |
| ·实验方案 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 {110}硅的湿法腐蚀工艺及基于{110}硅的音叉式微陀螺的湿法腐蚀 | 第34-45页 |
| ·{110}硅简介 | 第34页 |
| ·{110}硅湿法腐蚀实验研究 | 第34-40页 |
| ·{110}硅腐蚀结构的实验分析 | 第35-37页 |
| ·腐蚀腔的垂直侧壁 | 第37-38页 |
| ·{110}硅腐蚀结构的生成模型 | 第38-39页 |
| ·{110}硅的激光辅助湿法腐蚀技术 | 第39-40页 |
| ·{110}硅湿法腐蚀速率与形貌特征 | 第40-41页 |
| ·基于{110}硅的音叉式硅微陀螺的湿法腐蚀 | 第41-44页 |
| ·结构及原理简介 | 第41-42页 |
| ·陀螺主体结构的湿法腐蚀研究 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 {111}硅的湿法腐蚀工艺及八面体型孔腔结构阵列的制备 | 第45-55页 |
| ·{111}硅简介 | 第45-46页 |
| ·{111}硅湿法腐蚀实验研究 | 第46-51页 |
| ·{111}硅腐蚀结构的实验分析 | 第46-48页 |
| ·{111}硅腐蚀结构的晶体学分析 | 第48-50页 |
| ·{111}晶面的腐蚀速率 | 第50页 |
| ·{111}晶面的腐蚀形貌和粗糙度 | 第50-51页 |
| ·{111}硅的预腐蚀及湿法腐蚀结构探讨 | 第51-53页 |
| ·八面体型纳米孔腔结构阵列的湿法腐蚀 | 第53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第五章 {100}硅的湿法腐蚀工艺及倒金字塔型孔腔结构阵列的制备 | 第55-68页 |
| ·{100}硅简介 | 第55-56页 |
| ·{100}硅湿法腐蚀实验研究 | 第56-63页 |
| ·{100}硅腐蚀结构的实验分析 | 第56-58页 |
| ·{100}晶面的腐蚀速率 | 第58-59页 |
| ·{100}晶面的腐蚀形貌 | 第59-61页 |
| ·{100}晶面的粗糙度 | 第61-63页 |
| ·{100}硅腐蚀结构变化规律 | 第63-66页 |
| ·掩膜窗口规则 | 第63-64页 |
| ·掩膜窗口不规则 | 第64-66页 |
| ·倒金字塔型纳米孔腔结构阵列的湿法腐蚀 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第六章 总结与展望 | 第68-70页 |
| ·全文总结 | 第68页 |
| ·工作展望 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第75页 |
