无掩模光刻系统的研究与设计
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-16页 |
| ·光刻技术的发展历程 | 第9-10页 |
| ·新型光刻技术的现状与发展 | 第10-13页 |
| ·传统光学光刻技术 | 第11-12页 |
| ·X射线光刻(RXL) | 第12页 |
| ·EUVL(极短紫外)光刻 | 第12-13页 |
| ·无掩模光刻技术的研究现状 | 第13-14页 |
| ·基于带电粒子的无掩模(CPML) | 第13页 |
| ·数字光学无掩模光刻技术 | 第13-14页 |
| ·本论文研究的主要工作 | 第14-16页 |
| ·研究意义与目的 | 第14-15页 |
| ·研究的主要内容 | 第15-16页 |
| 第2章 DMD数字光刻系统的光学系统设计方案 | 第16-25页 |
| ·引言 | 第16页 |
| ·DMD数字光刻系统的硬件组成模块 | 第16-18页 |
| ·光学系统的设计 | 第18-25页 |
| ·光源照明系统 | 第19-21页 |
| ·DMD数字微镜器件 | 第21-23页 |
| ·投影光刻物镜 | 第23-25页 |
| 第3章 DMD数字光刻系统的控制系统详解 | 第25-33页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·控制系统的组成 | 第25-26页 |
| ·控制系统的硬件设计 | 第26-28页 |
| ·主从计算机接口 | 第26页 |
| ·DMD驱动 | 第26页 |
| ·CCD调焦系统 | 第26-28页 |
| ·工件台系统及限位开关 | 第28页 |
| ·控制系统的软件设计 | 第28-33页 |
| ·软件的功能需求分析 | 第29页 |
| ·软件的框架结构设计 | 第29-33页 |
| 第4章 DMD数字光刻系统结构的设计方案 | 第33-40页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·结构设计原则和要求 | 第33-34页 |
| ·结构建模软件的选择 | 第34页 |
| ·结构设计思路 | 第34-35页 |
| ·结构设计过程 | 第35-40页 |
| ·光学元件的参数测量 | 第35-38页 |
| ·系统校正环节的预留 | 第38页 |
| ·三维模型建模 | 第38-40页 |
| 第5章 系统的装调与性能测试 | 第40-58页 |
| ·系统的装调要求 | 第40-41页 |
| ·系统的装调过程 | 第41-43页 |
| ·DMD数字微镜的安装与调试 | 第41-42页 |
| ·线性CCD的安装与调试 | 第42页 |
| ·工件台的微调整 | 第42-43页 |
| ·系统装调的实现 | 第43-44页 |
| ·光刻制作工艺流程 | 第44-48页 |
| ·基片预处理 | 第45-46页 |
| ·涂胶 | 第46-47页 |
| ·前烘 | 第47页 |
| ·曝光 | 第47-48页 |
| ·显定影 | 第48页 |
| ·实验制作 | 第48-53页 |
| ·系统主要性能指标测量 | 第53-58页 |
| ·实验所能达到的技术指标 | 第53页 |
| ·照明均匀性测试 | 第53-54页 |
| ·像面照度均匀性测试 | 第54-56页 |
| ·分辨率测试 | 第56-57页 |
| ·工件台步进精度测试 | 第57-58页 |
| 第6章 结论与展望 | 第58-60页 |
| ·总结 | 第58-59页 |
| ·展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第64-65页 |
| 附录 | 第65-68页 |
