等离子体刻蚀轮廓的数值研究

第一章 绪论	第1-12页
1．1 研究的意义	第8-9页
1．2 国内外发展动态	第9-10页
1．3 本文的主要工作	第10-12页
第二章 等离子体产生原理及其反应装置	第12-26页
2．1 平行平板射频等离子体源	第12-13页
2．2 电感耦合等离子体源	第13-16页
2．3 电子回旋共振等离子体源	第16-20页
2．4 螺旋波等离子体源	第20-23页
2．5 高密度等离子体源比较	第23页
2．6 等离子体约束	第23-24页
2．7 等离子体引起的器件损伤	第24-26页
第三章 等离子体刻蚀工艺	第26-33页
3．1 等离子体刻蚀的分类	第26-27页
3．2 等离子体刻蚀的应用	第27-29页
3．3 等离子体刻蚀的数值模拟	第29-33页
第四章 刻蚀速率模型及其离子分布函数	第33-42页
4．1 刻蚀速率模型的建立	第33-34页
4．2 离子的分布函数	第34-42页
第五章 鞘层无碰撞的刻蚀轮廓模拟	第42-51页
5．1 刻蚀表面的演化方程	第42-44页
5．2 特征曲线法	第44-45页
5．3 离子能流的计算	第45-48页
5．4 模拟结果与分析	第48-51页
第六章 不同反应器中刻蚀轮廓的模拟	第51-63页
6．1 离子能流	第51-53页
6．2 模拟结果与分析	第53-63页
结束语	第63-65页
致谢	第65-66页
参考文献	第66-69页
附录	第69-72页
研究成果	第72页