激光直写光刻技术研究
| 第一章 引言 | 第1-19页 |
| 1．1 DOE制作技术的发展概况 | 第8-11页 |
| 1．2 激光直写技术发展过程 | 第11-17页 |
| 1．3 开展激光直写光刻技术研究的意义 | 第17-18页 |
| 1．4 论文的主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 激光直接写入系统 | 第19-29页 |
| 2．1 国内外激光直写系统功能比较 | 第19-24页 |
| 2．2 四轴激光直接写入系统 | 第24-28页 |
| 2．2．1 机械系统 | 第25-26页 |
| 2．2．2 光学系统 | 第26-27页 |
| 2．2．3 控制系统 | 第27页 |
| 2．2．4 环境控制 | 第27-28页 |
| 2．3 小结 | 第28-29页 |
| 第三章 激光直写光刻原理 | 第29-43页 |
| 3．1 工艺流程 | 第29-32页 |
| 3．2 激光直写光刻理论模型 | 第32-41页 |
| 3．2．1 直写曝光过程的数学分析 | 第33-39页 |
| 3．2．2 显影过程的分析 | 第39-41页 |
| 3．3 小结与讨论 | 第41-43页 |
| 第四章 直角坐标激光直写光刻技术研究 | 第43-69页 |
| 4．1 直角坐标工作特点 | 第43-45页 |
| 4．2 单线条的写入研究 | 第45-57页 |
| 4．2．1 线条分辨率 | 第45-50页 |
| 4．2．2 曝光量的选择和线条轮廓分析 | 第50-54页 |
| 4．2．3 工艺参数对线宽的影响 | 第54-57页 |
| 4．3 离焦直写光刻研究 | 第57-61页 |
| 4．3．1 引言 | 第57-58页 |
| 4．3．2 理论分析与实验结果 | 第58-61页 |
| 4．3．3 结论 | 第61页 |
| 4．4 金属网栅薄膜的制作 | 第61-65页 |
| 4．4．1 引言 | 第61-62页 |
| 4．4．2 直写光刻网栅结构 | 第62-63页 |
| 4．4．3 实验结果与讨论 | 第63-65页 |
| 4．5 写入误差分析 | 第65-68页 |
| 4．5．1 驻波效应的影响 | 第65-66页 |
| 4．5．2 邻近效应的影响 | 第66-68页 |
| 4．6 小结 | 第68-69页 |
| 第五章 极坐标激光直写光刻技术研究 | 第69-90页 |
| 5．1 极坐标系统工作特点 | 第69-70页 |
| 5．2 工艺技术难题的解决 | 第70-77页 |
| 5．2．1 光轴与旋转轴对准技术 | 第70-76页 |
| 5．2．2 接头闭合技术 | 第76-77页 |
| 5．3 写入工艺研究 | 第77-83页 |
| 5．4 误差分析 | 第83-84页 |
| 5．5 球面直写光刻研究 | 第84-89页 |
| 5．5．1 引言 | 第84页 |
| 5．5．2 球面直写光刻特点 | 第84-86页 |
| 5．5．3 实验结果 | 第86-89页 |
| 5．6 小结 | 第89-90页 |
| 第六章 总结 | 第90-92页 |
| 6．1 论文的研究成果 | 第90-91页 |
| 6．2 具有创新意义的工作 | 第91-92页 |
| 参考文献 | 第92-101页 |
| 在读期间发表和待发表的论文 | 第101-103页 |
| 致谢 | 第103-104页 |
| 作者简历 | 第104页 |
