| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的研究背景 | 第10-11页 |
| ·p型透明导电薄膜的研究进展 | 第11-13页 |
| ·透明导电氧化物的制备方法 | 第13-18页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第14-15页 |
| ·磁控溅射法 | 第15-16页 |
| ·化学气相沉积法 | 第16页 |
| ·水热法 | 第16-17页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第17页 |
| ·其他制备方法 | 第17-18页 |
| ·CuAlO_2的结构 | 第18-20页 |
| ·CuAlO_2薄膜的应用 | 第20-22页 |
| ·CuAlO_2臭氧传感器 | 第20-21页 |
| ·CuAlO_2太阳能电池 | 第21-22页 |
| ·本文的研究思路 | 第22-24页 |
| 第二章 薄膜样品的制备方法及表征手段 | 第24-32页 |
| ·实验原料 | 第24-25页 |
| ·薄膜样品的制备方法 | 第25-28页 |
| ·脉冲激光沉积法原理及设备概况 | 第25-27页 |
| ·磁控溅射原理及设备概况 | 第27-28页 |
| ·薄膜样品的制备过程 | 第28-29页 |
| ·衬底清洗 | 第28页 |
| ·脉冲激光沉积法制备薄膜样品 | 第28-29页 |
| ·薄膜样品的表征方法 | 第29-32页 |
| 第三章 靶材制备及其成分分析 | 第32-42页 |
| ·CuAlO_2靶材的制备 | 第32-35页 |
| ·CuAlO_2靶材成分分析 | 第35-38页 |
| ·Zn掺杂CuAlO_2靶材的制备及成分分析 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 第四章 脉冲激光沉积法生长CuAlO_2薄膜及其性能研究 | 第42-60页 |
| ·退火对CuAlO_2薄膜的影响 | 第42-46页 |
| ·衬底对CuAlO_2薄膜的影响 | 第46-49页 |
| ·衬底温度对CuAlO_2薄膜的影响 | 第49-53页 |
| ·生长压强对CuAlO_2薄膜的影响 | 第53-55页 |
| ·生长时间对CuAlO_2薄膜的影响 | 第55-57页 |
| ·电学性能 | 第57页 |
| ·本章小结 | 第57-60页 |
| 第五章 CuAlO_2薄膜的光致发光及其掺杂性能研究 | 第60-72页 |
| ·PLD法制备CuAlO_2薄膜的光致发光性能研究 | 第60-63页 |
| ·Zn掺杂对CuAlO_2薄膜的性能影响 | 第63-66页 |
| ·溶胶凝胶法制备CuAlO_2多晶及光催化性能初探 | 第66-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 第六章 结论与展望 | 第72-74页 |
| ·结论 | 第72-73页 |
| ·展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-80页 |
| 致谢 | 第80-82页 |
| 个人简历 | 第82-84页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第84页 |
