摘要 | 第1-9页 |
ABSTRACT | 第9-17页 |
第一章 绪论 | 第17-31页 |
·研究背景 | 第17-18页 |
·SnO_2基本性质与研究现状 | 第18-20页 |
·SnO_2结构特点 | 第18-19页 |
·SnO_2基材料的研究进展 | 第19-20页 |
·本论文用到的光学表征技术及理论模型 | 第20-25页 |
·拉曼散射光谱技术 | 第20-21页 |
·光致发光光谱技术 | 第21-22页 |
·透射和反射光谱技术 | 第22-23页 |
·薄膜材料的光学色散函数 | 第23-25页 |
·本论文研究意义和主要内容 | 第25-27页 |
参考文献 | 第27-31页 |
第二章 Mn掺杂浓度对SnO_2半导体氧化物薄膜光学性质的影响 | 第31-49页 |
·引言 | 第31-32页 |
·蓝宝石衬底上不同Mn掺杂浓度SnO_2薄膜的制备和实验表征 | 第32-33页 |
·蓝宝石衬底上不同Mn掺杂浓度SnO_2薄膜的晶格结构分析 | 第33-35页 |
·蓝宝石衬底上不同Mn掺杂浓度SnO_2薄膜的光学性质 | 第35-44页 |
·Mn含量对Sn_(1-x)Mn_xO_2薄膜透射光谱的影响 | 第35-36页 |
·Mn含量对Sn_(1-x)Mn_xO_2薄膜远红外反射光谱的影响 | 第36-39页 |
·Sn_(1-x)Mn_xO_2薄膜的光学常数和晶格振动分析 | 第39-42页 |
·Sn_(1-x)Mn_xO_2薄膜的光致发光分析 | 第42-44页 |
·本章小结 | 第44-45页 |
参考文献 | 第45-49页 |
第三章 Fe掺杂浓度对SnO_2半导体氧化物薄膜光学性质的影响 | 第49-73页 |
·引言 | 第49-50页 |
·蓝宝石衬底上不同Fe掺杂浓度SnO_2薄膜的制备和实验表征 | 第50-51页 |
·蓝宝石衬底上不同Fe掺杂浓度SnO_2薄膜的结构分析 | 第51-55页 |
·Sn_(1-x)Fe_xO_2薄膜的XRD分析 | 第51-53页 |
·Sn_(1-x)Fe_xO_2薄膜的拉曼散射分析 | 第53-55页 |
·蓝宝石衬底上不同Fe掺杂浓度SnO_2薄膜的光学性质 | 第55-67页 |
·Fe含量对Sn_(1-x)Fe_xO_2薄膜反射光谱及红外活性晶格振动的影响 | 第55-57页 |
·Fe含量对Sn_(1-x)Fe_xO_2薄膜透射谱及电子跃迁的影响 | 第57-62页 |
·Sn_(1-x)Fe_xO_2薄膜的介电函数分析 | 第62-65页 |
·Sn_(1-x)Fe_xO_2薄膜的光致发光分析 | 第65-67页 |
·本章小结 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-73页 |
第四章 不同氧压下Fe/Mn掺杂SnO_2半导体氧化物薄膜光学特性的对比 | 第73-93页 |
·引言 | 第73-74页 |
·不同氧压下Sn_(0.95)TM_(0.05)O_2薄膜的制备和实验表征 | 第74-75页 |
·不同氧压下Sn_(0.95)TM_(0.05)O_2薄膜的结构和形态分析 | 第75-80页 |
·Sn_(0.95)TM_(0.05)O_2薄膜的XRD分析 | 第75-76页 |
·Sn_(0.95)TM_(0.05)O_2薄膜的表面形貌分析 | 第76-77页 |
·Sn_(0.95)TM_(0.05)O_2薄膜的XPS分析 | 第77-80页 |
·不同氧压下Sn_(0.95)TM_(0.05)O_2薄膜的光学性质 | 第80-88页 |
·氧压对Sn_(0.95)TM_(0.05)O_2薄膜远红外反射光谱的影响 | 第80-82页 |
·氧压对Sn_(0.95)TM_(0.05)O_2薄膜透射光谱的影响 | 第82-84页 |
·氧压对Sn_(0.95)TM_(0.05)O_2薄膜光致发光光谱的影响 | 第84-88页 |
·本章小结 | 第88-89页 |
参考文献 | 第89-93页 |
第五章 低温下半导体Cu_2O薄膜材料的光场耦合规律 | 第93-105页 |
·引言 | 第93-94页 |
·Cu_2O薄膜的制备 | 第94页 |
·Cu_2O薄膜的XRD分析和实验表征 | 第94-95页 |
·Cu_2O薄膜的光学性质 | 第95-101页 |
·Cu_2O薄膜变温拉曼散射分析 | 第95-99页 |
·Cu_2O薄膜变温透射光谱分析 | 第99-101页 |
·本章小结 | 第101-102页 |
参考文献 | 第102-105页 |
第六章 结论 | 第105-109页 |
附录Ⅰ 攻读博士学位期间发表论文情况 | 第109-111页 |
附录Ⅱ 致谢 | 第111-112页 |