摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第1章 绪论 | 第10-24页 |
·引言 | 第10页 |
·透明导电氧化物(TCO)薄膜发展 | 第10-13页 |
·SnO_2薄膜的特性 | 第11-12页 |
·NiO 薄膜的特性 | 第12-13页 |
·TCO 薄膜的 P 型掺杂 | 第13-14页 |
·P 型薄膜掺杂机理和影响因素 | 第13页 |
·P 型 TCO 薄膜的发展现状 | 第13-14页 |
·透明导电薄膜的制备 | 第14-18页 |
·脉冲激光沉积 | 第14-15页 |
·磁控溅射 | 第15-16页 |
·MOCVD(有机化学气相淀积) | 第16-17页 |
·真空蒸度法 | 第17页 |
·喷雾热分解法 | 第17-18页 |
·p-n 结及其内建电场 | 第18页 |
·本论文的主要工作 | 第18-20页 |
参考文献 | 第20-24页 |
第2章 SnO_2基薄膜的磁控溅射制备及其表征 | 第24-32页 |
·实验设备 | 第24-27页 |
·陶瓷靶材的制备 | 第24-26页 |
·清洗衬底 | 第26页 |
·薄膜的磁控溅射制备 | 第26-27页 |
·SnO_2透明导电薄膜的表征 | 第27-30页 |
·紫外-可见(UV-Vis)光谱测试 | 第27-28页 |
·霍尔(Hall)测试 | 第28页 |
·X 射线衍射(XRD)测试 | 第28页 |
·原子力显微镜(AFM) | 第28-29页 |
·场发射扫描电镜(FESEM)测试 | 第29页 |
·伏安特性曲线测试 | 第29-30页 |
参考文献 | 第30-32页 |
第3章 石英衬底上 SnO_2:Al 透明导电薄膜的性能研究 | 第32-44页 |
·SnO_2:Al 透明导电薄膜的制备 | 第32页 |
·SnO_2:Al 透明导电薄膜的电学性能 | 第32-35页 |
·SnO_2:Al 透明导电薄膜的结构和表面形貌分析 | 第35-37页 |
·SnO_2:Al 薄膜的 XRD 分析 | 第35-36页 |
·SnO_2:Al 薄膜的 SEM 分析 | 第36页 |
·SnO_2:Al 透明导电薄膜的 AFM 分析 | 第36-37页 |
·SnO_2:Al 透明导电薄膜的光学性能 | 第37-39页 |
·本章小结 | 第39-41页 |
参考文献 | 第41-44页 |
第4章 基于 SnO_2的异质结和同质结的研究 | 第44-64页 |
·引言 | 第44页 |
·在石英衬底上的 p-SnO_2:Al/ n-SnO_2:Sb 同质结 | 第44-52页 |
·p-SnO_2:Al/ n-SnO_2:Sb 同质结的制备 | 第44-45页 |
·SnO_2:Sb 薄膜的性能分析 | 第45-48页 |
·SnO_2:Al/ SnO_2:Sb 同质结的 X 射线衍射(XRD)测试分析 | 第48页 |
·SnO_2:Al/ SnO_2:Sb 同质结的场发射扫描电镜(SEM)测试分析 | 第48-49页 |
·SnO_2:Al/ SnO_2:Sb 同质结的原子力显微镜(AFM)测试分析 | 第49-50页 |
·SnO_2:Al/ SnO_2:Sb 同质结薄膜的透射光谱(UV-Vis)测试分析 | 第50-51页 |
·在石英衬底上沉积的 SnO_2:Al/ SnO_2:Sb 同质结的伏安 IV 曲线 | 第51-52页 |
·在玻璃衬底上的 p-NiO/ n-SnO_2:Sb 异质结 | 第52-59页 |
·p-NiO/ n-SnO_2:Sb 异质结的制备 | 第52-53页 |
·磁控溅射制备 p-NiO 薄膜热处理前后的 XRD 测试分析 | 第53-54页 |
·p-NiO/ n-SnO_2:Sb 异质结薄膜 XRD 测试分析 | 第54-55页 |
·SnO_2:Sb 与 NiO 的匹配分析 | 第55-56页 |
·SnO_2:Sb/NiO 异质结的场发射扫描电镜(SEM)测试分析 | 第56页 |
·SnO_2:Sb/NiO 异质结的原子力显微镜(AFM)测试分析 | 第56-57页 |
·SnO_2:Sb/NiO 异质结薄膜的透射光谱(UV-Vis)测试分析 | 第57-58页 |
·在玻璃衬底上沉积的 SnO_2:Sb/NiO 异质结的伏安 IV 曲线 | 第58-59页 |
·本章小结 | 第59-61页 |
参考文献 | 第61-64页 |
第5章 结论 | 第64-66页 |
致谢 | 第66-68页 |
攻读硕士期间完成的论文 | 第68-69页 |