| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| ·透明导电薄膜概述 | 第9-14页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的发展历程与应用 | 第9-10页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的主要分类 | 第10-14页 |
| ·AZO 薄膜简介 | 第14-16页 |
| ·AZO 薄膜的特性 | 第14页 |
| ·AZO 薄膜的研究现状 | 第14-16页 |
| ·本论文的研究思路与主要内容 | 第16-18页 |
| ·本论文的研究思路 | 第16页 |
| ·本论文的主要内容 | 第16-18页 |
| 第2章 AZO 薄膜制备工艺的正交优化 | 第18-32页 |
| ·AZO 薄膜的制备 | 第18-21页 |
| ·脉冲激光沉积法简介 | 第18-20页 |
| ·AZO 薄膜的脉冲激光沉积 | 第20-21页 |
| ·AZO 薄膜的主要表征手段 | 第21-23页 |
| ·紫外可见分光光度计 | 第21-22页 |
| ·霍尔效应仪 | 第22-23页 |
| ·薄膜厚度测试仪 | 第23页 |
| ·PLD 法制备 AZO 薄膜工艺的正交优化 | 第23-31页 |
| ·正交试验设计的基本理论 | 第23-24页 |
| ·正交参数与正交表的选取 | 第24-25页 |
| ·正交试验结果及分析 | 第25-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 同质缓冲层对 AZO 薄膜性能的影响 | 第32-43页 |
| ·同质缓冲层的引入对 AZO 薄膜性能的影响 | 第32-35页 |
| ·同质缓冲层的引入对 AZO 薄膜晶体结构及表面形貌的影响 | 第32-33页 |
| ·同质缓冲层的引入对 AZO 薄膜光学与电学性能的影响 | 第33-35页 |
| ·同质缓冲层沉积温度对 AZO 薄膜性能的影响 | 第35-38页 |
| ·同质缓冲层沉积温度对 AZO 薄膜晶体结构及表面形貌的影响 | 第35-37页 |
| ·同质缓冲层沉积温度对 AZO 薄膜光学与电学性能的影响 | 第37-38页 |
| ·同质缓冲层沉积氧压对 AZO 薄膜性能的影响 | 第38-41页 |
| ·同质缓冲层沉积氧压对 AZO 薄膜晶体结构及表面形貌的影响 | 第38-40页 |
| ·同质缓冲层沉积氧压对 AZO 薄膜光学与电学性能的影响 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第4章 大面积 AZO 薄膜的制备及其光学与电学性能表征 | 第43-50页 |
| ·大面积 AZO 薄膜的制备工艺 | 第43-44页 |
| ·大面积 AZO 薄膜厚度均匀性分析 | 第44-47页 |
| ·大面积 AZO 薄膜的光学与电学性能表征 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第5章 总结与展望 | 第50-52页 |
| ·论文总结 | 第50页 |
| ·后续工作与展望 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 攻读硕士期间的论文发表情况 | 第58页 |
