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脉冲激光沉积法制备的ZnO薄膜的电抽运随机激射

摘要第1-7页
Abstract第7-9页
目录第9-12页
第一章 绪论第12-14页
第二章 文献综述—ZnO薄膜及其材料与器件的随机激射研究现状与进展第14-34页
   ·引言第14页
   ·ZnO的基本性质第14-20页
     ·ZnO的晶体结构第15-17页
     ·ZnO的能带结构第17-18页
     ·ZnO的电学特性第18-19页
     ·ZnO的光学特性第19页
     ·ZnO的其他特性第19-20页
   ·ZnO薄膜的制备方法第20-22页
     ·脉冲激光沉积法第20-21页
     ·溅射法第21页
     ·溶胶凝胶法第21页
     ·化学气相沉积法第21-22页
     ·分子束外延生长法第22页
   ·ZnO随机激射第22-32页
     ·随机激射的特性概述第22-24页
     ·ZnO光抽运随机激光第24-26页
     ·ZnO电抽运随机激射器件第26-32页
   ·小结第32-34页
第三章 材料制备技术与测试方法第34-38页
   ·脉冲激光沉积制备技术第34-35页
     ·脉冲激光沉积制备技术原理第34-35页
     ·脉冲激光沉积设备第35页
   ·其他材料与器件制备技术第35-36页
     ·直流反应磁控溅射设备第35页
     ·射频反应磁控溅射设备第35-36页
     ·材料热处理设备第36页
     ·旋涂设备第36页
   ·材料、器件测试设备第36-38页
     ·扫描电子显微镜第36页
     ·X射线衍射仪第36页
     ·X射线光电子能谱仪第36-37页
     ·光吸收谱测量仪第37页
     ·室温光致发光/电致发光测试系统第37-38页
第四章 PLD法工艺参数对ZnO薄膜及其器件电抽运随机激射的影响第38-52页
   ·引言第38页
   ·MIS器件结构与制备第38-39页
   ·激光波长对ZnO薄膜形貌的影响第39-41页
   ·衬底温度对ZnO薄膜形貌结构和发光性能的影响第41-46页
     ·不同衬底温度对ZnO薄膜形貌的影响第41-43页
     ·不同衬底温度对ZnO薄膜结构的影响第43-44页
     ·不同衬底温度对ZnO薄膜室温光致发光的影响第44-45页
     ·不同衬底温度对ZnO薄膜为发光层的MIS器件电致发光性能的影响第45-46页
   ·氧分压对ZnO薄膜发光性能的影响第46-50页
     ·不同氧分压对ZnO薄膜室温光致发光性能的影响第46-48页
     ·不同氧分压对ZnO薄膜为发光层的MIS器件电致发光性能的影响第48-50页
   ·总结第50-52页
第五章 不同方法制备ZnO薄膜及其对ZnO器件电抽运随机激射的影响第52-62页
   ·引言第52页
   ·MIS器件结构与制备第52-53页
   ·ZnO薄膜表征第53-56页
     ·ZnO薄膜形貌第53-54页
     ·ZnO薄膜结构第54-55页
     ·ZnO薄膜室温光致发光第55-56页
   ·ZnO的MIS器件电致发光第56-58页
     ·ZnO-MIS器件的室温EL谱第56-57页
     ·ZnO-MIS器件的光功率第57-58页
   ·ZnO-MIS器件产生受激辐射的物理机制第58-59页
   ·以不同方法制备的ZnO薄膜为发光层的MIS结构器件电抽运随机激射性能分析第59-60页
   ·小结第60-62页
第六章 PLD法制备绝缘体薄膜及其在ZnO电抽运随机激射器件中的应用第62-76页
   ·引言第62-63页
   ·MIS器件结构与制备第63-71页
     ·Si_3N_4薄膜表征第64-66页
     ·Si_3N_4对ZnO薄膜紫外室温光致发光的增强作用第66-68页
     ·ZnO(直流反应溅射)/Si_3N_4/Au器件的电抽运随机激射第68-70页
     ·ZnO(PLD)/Si_3N_4/Au器件的电抽运随机激射第70-71页
   ·PLD法制备MgO薄膜及其在ZnO电抽运随机激射器件中的应用第71-74页
     ·ZnO(直流反应溅射)/MgO/Au器件的电抽运随机激射第71-73页
     ·ZnO(PLD)/MgO/Au器件的电抽运随机激射第73-74页
   ·小结第74-76页
第七章 总结第76-78页
参考文献第78-86页
致谢第86-88页
个人简历第88-90页
攻读学位期间发表的学术论文第90页

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