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NiO材料制备及其光电器件研究

内容提要第1-5页
摘要第5-7页
Abstract第7-11页
第一章 绪论第11-23页
   ·引言第11页
   ·NiO 材料的基本性质第11-17页
     ·NiO 材料的结构特性第12-13页
     ·NiO 材料的光电特性第13-15页
     ·NiO 材料的气敏特性第15-16页
     ·NiO 材料的电致变色特性第16-17页
   ·NiO 材料的应用及进展第17-21页
   ·本论文主要研究内容第21-23页
第二章 制备 NiO 薄膜的设备及样品表征方法第23-40页
   ·NiO 薄膜制备技术第23-30页
     ·真空蒸发镀膜第23-24页
     ·分子束外延第24-26页
     ·脉冲激光沉积第26-27页
     ·原子层沉积第27-29页
     ·化学气相沉积第29页
     ·溶胶-凝胶技术第29-30页
   ·MOCVD 方法的基本原理及设备第30-34页
     ·MOCVD 技术简介第30-31页
     ·本论文中应用的 MOCVD 设备第31-34页
   ·磁控溅射方法的基本原理及设备第34-35页
     ·磁控溅射技术简介第34页
     ·本论文中应用的磁控溅射设备第34-35页
   ·材料及器件的表征方法第35-40页
     ·扫描电子显微镜(SEM)第35-36页
     ·X 射线衍射(XRD)第36-37页
     ·紫外-可见透射光谱(UV-Vis)第37-38页
     ·霍尔效应(Hall)第38页
     ·半导体特性测试系统(Keithley4200-SCS)第38页
     ·电致发光测试系统(EL)第38-40页
第三章 MOCVD 方法制备 NiO 薄膜及其性能研究第40-56页
   ·MOCVD 方法 NiO 薄膜的制备第40页
   ·生长温度对 MOCVD 方法制备 NiO 薄膜性质影响第40-47页
     ·生长温度对 NiO 薄膜表面形貌的影响第40-42页
     ·生长温度对 NiO 薄膜晶体结构影响第42-44页
     ·生长温度对 NiO 薄膜的光学性质影响第44-46页
     ·生长温度对 NiO 薄膜的电学特性影响第46-47页
   ·Ni 源流量变化对 MOCVD 方法制备 NiO 薄膜性质的影响第47-53页
     ·Ni 源流量变化对 NiO 薄膜的表面形貌影响第47-49页
     ·Ni 源流量变化对 NiO 薄膜的晶体质量影响第49-51页
     ·Ni 源流量对 NiO 薄膜的光学特性影响第51-53页
     ·Ni 源流量对 NiO 薄膜的电学特性影响第53页
   ·本章小结第53-56页
第四章 磁控溅射方法制备 NiO 薄膜及其性能研究第56-75页
   ·磁控溅射方法 NiO 薄膜的制备第56-57页
   ·溅射温度对磁控溅射方法制备 NiO 薄膜性质的影响第57-62页
     ·溅射温度对 NiO 薄膜的表面形貌影响第57-59页
     ·溅射温度对 NiO 薄膜的晶体质量研究第59-60页
     ·溅射温度对 NiO 薄膜的光学性质的影响第60-61页
     ·溅射温度对 NiO 薄膜的电学特性影响第61-62页
   ·氧氩比对磁控溅射方法制备 NiO 薄膜性质的影响第62-67页
     ·氧氩比对 NiO 薄膜表面形貌的影响第62-64页
     ·氧氩比对 NiO 薄膜的晶体质量的影响第64-65页
     ·氧氩比对 NiO 薄膜的光学特性的影响第65-66页
     ·氧氩比对 NiO 薄膜的电学特性影响第66-67页
   ·溅射功率对磁控溅射方法制备 NiO 薄膜性质的影响第67-72页
     ·溅射功率对 NiO 薄膜的表面形貌影响第67-69页
     ·溅射功率对 NiO 薄膜的晶体质量研究第69-70页
     ·溅射功率对 NiO 薄膜的光学特性影响第70-72页
     ·溅射功率对 NiO 薄膜的电学性质的影响第72页
   ·本章小结第72-75页
第五章 NiO 薄膜材料相关的光电器件研究第75-98页
   ·引言第75页
   ·MOCVD 方法制备的 NiO 薄膜在半导体光电器件中的应用第75-90页
     ·n-ZnO/i-NiO/n-GaN 异质结器件的制备及特性分析第76-80页
     ·n-ZnO/i-NiO/p-GaN 异质结器件的制备及特性分析第80-87页
     ·n-ZnO/i-NiO/p-Si 异质结器件的制备及特性分析第87-90页
   ·磁控溅射方法制备的 NiO 薄膜在光电器件中的应用第90-97页
     ·p-NiO/n-GaN 异质结器件的制备及特性分析第90-95页
     ·n-ZnO/p-NiO/p-Si 异质结器件的制备及特性分析第95-97页
   ·本章小结第97-98页
结论第98-103页
本论文的创新点第103-104页
参考文献第104-111页
作者简介及在学期间所取得的科研成果第111-114页
致谢第114页

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