| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·金刚石的结构与性质 | 第9-13页 |
| ·金刚石的结构 | 第9-10页 |
| ·金刚石的性质 | 第10-13页 |
| ·钛基底的结构与性质 | 第13-14页 |
| ·钛的结构与性质 | 第13-14页 |
| ·钛基金刚石薄膜的特点 | 第14-16页 |
| ·BDD 薄膜电极基底材料的选择 | 第14-15页 |
| ·平板钛基金刚石薄膜的特点 | 第15页 |
| ·多孔钛基金刚石薄膜的特点 | 第15-16页 |
| 第二章 金刚石薄膜的制备技术及表征方式 | 第16-24页 |
| ·金刚石薄膜的主要制备技术简介 | 第16-19页 |
| ·微波等离子体 CVD（MPCVD） | 第16-17页 |
| ·热丝 CVD（HFCVD） | 第17-18页 |
| ·直流等离子体喷射 CVD（DC jet CVD） | 第18页 |
| ·直流热阴极 PCVD（DC-PCVD） | 第18-19页 |
| ·金刚石薄膜的主要表征方式 | 第19-24页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第19-20页 |
| ·拉曼光谱（Raman Spectra） | 第20-22页 |
| ·X 射线衍射光谱（XRD） | 第22-24页 |
| 第三章 BDD/Ti 多孔复合膜的制备和测试 | 第24-43页 |
| ·多孔钛基底的结构与性质 | 第24-25页 |
| ·金刚石薄膜生长机理 | 第25-31页 |
| ·碳的 P-T 相图 | 第25-26页 |
| ·非平衡热力学耦合模型 | 第26-27页 |
| ·化学反应动力学模型 | 第27-30页 |
| ·HFCVD 工艺制备金刚石薄膜机理 | 第30-31页 |
| ·实验装置及工艺流程 | 第31-34页 |
| ·实验装置 | 第31-33页 |
| ·主要工艺流程 | 第33-34页 |
| ·影响薄膜生长的主要因素 | 第34-36页 |
| ·真空腔室的气密性 | 第34-35页 |
| ·热丝的选择与碳化 | 第35页 |
| ·工作气体的选择 | 第35-36页 |
| ·基底预处理 | 第36页 |
| ·BDD/Ti 多孔复合膜的制备 | 第36-39页 |
| ·实验前的准备工作 | 第36-37页 |
| ·BDD 薄膜沉积实验操作过程 | 第37-39页 |
| ·所得样品的物理特性 | 第39-42页 |
| ·所得样品的外貌 | 第39-40页 |
| ·所得样品的微观结构 | 第40-41页 |
| ·所得样品的 XRD 图谱 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 第四章 影响膜基附着特性的主要因素及调整方法 | 第43-57页 |
| ·主要影响因素 | 第43-46页 |
| ·残余应力及其分类 | 第43-44页 |
| ·残余应力的测试方法 | 第44-45页 |
| ·复合膜中残余应力的产生及影响 | 第45页 |
| ·碳化钛的产生及影响 | 第45-46页 |
| ·膜基附着特性的工艺调整 | 第46-55页 |
| ·工艺调整实验 | 第46-47页 |
| ·实验结果的分析与讨论 | 第47-55页 |
| ·小结 | 第55-57页 |
| 第五章 总结与展望 | 第57-58页 |
| ·总结 | 第57页 |
| ·展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |