首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--半导体技术论文--一般性问题论文--材料论文--一般性问题论文

氧分压变化对二氧化钒薄膜相变特性的影响

论文摘要第1-8页
ABSTRACT第8-11页
第一章 绪论第11-17页
   ·二氧化钒研究进展第11-12页
     ·二氧化钒材料应用简介第12-15页
 参考文献第15-17页
第二章 光学测量技术与固体的相变理论基础第17-27页
   ·拉曼光谱测量技术第17-19页
   ·透射光谱测量第19页
   ·卢瑟福背散射(RBS)测量第19-21页
   ·表面分析技术——X射线光电子能谱(XPS)第21-23页
     ·XPS的测量原理第21-22页
     ·XPS的定量分析第22-23页
   ·固体相变过程的理论基础第23-24页
     ·固体的一级相变第23-24页
     ·相变的驱动力和相变阻力第24页
   ·本章小结第24-26页
 参考文献第26-27页
第三章 氧分压变化对VO_2薄膜相变特性的影响第27-53页
   ·VO_2薄膜的研究进展第27-29页
   ·二氧化钒薄膜的制备第29页
   ·二氧化钒的光学以及电学表征第29-30页
   ·二氧化钒薄膜的变温拉曼散射光谱第30-33页
   ·透射光谱第33-36页
     ·高温透射光谱测量第33-35页
     ·低温透射光谱测量第35-36页
   ·电学电阻测量第36-39页
   ·通过XPS和RBS实验进行缺陷分析第39-43页
   ·薄膜中的缺陷对能带结构的影响第43-45页
   ·其他二氧化钒系统的光学和电学实验第45-48页
     ·二氧化钒纳米颗粒的光学和电学实验第45-47页
     ·蓝宝石衬底上二氧化钒薄膜的光学实验第47-48页
   ·结论第48页
   ·本章小结第48-50页
 参考文献第50-53页
第四章 总结与展望第53-55页
致谢第55-57页
攻读硕士期间发表的文章第57页

论文共57页,点击 下载论文
上一篇:一种数字微镜器件的封装设计
下一篇:PWM数据交织算法研究与FPGA实现