| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-39页 |
| ·综述 | 第10-22页 |
| ·自旋电子学的发展 | 第10-12页 |
| ·稀磁半导体的发展及其应用前景 | 第12-15页 |
| ·稀磁半导体中铁磁性来源 | 第15-22页 |
| ·In_2O_3基稀磁半导体 | 第22-31页 |
| ·In_2O_3结构及物性 | 第23-24页 |
| ·In_2O_3基稀磁半导体的研究现状 | 第24-31页 |
| ·SiC 基稀磁半导体 | 第31-36页 |
| ·SiC 的结构及特性 | 第31-33页 |
| ·SiC 基稀磁半导体研究现状 | 第33-36页 |
| ·In_2O_3和 SiC 基稀磁半导体存在的问题 | 第36-37页 |
| ·本文的研究目的和研究内容 | 第37-39页 |
| ·研究目的 | 第37页 |
| ·研究内容 | 第37-39页 |
| 第二章 样品的制备与测试方法 | 第39-46页 |
| ·薄膜的制备 | 第39-40页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第39-40页 |
| ·实验设备与实验材料 | 第40页 |
| ·结构表征与物性测量 | 第40-45页 |
| ·结构表征 | 第40-44页 |
| ·电输运性能测试 | 第44-45页 |
| ·磁性能测量 | 第45页 |
| ·光学性能测量 | 第45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第三章 Fe 掺杂 In_2O_3稀磁半导体薄膜研究 | 第46-67页 |
| ·实验过程 | 第46-47页 |
| ·测试结果与讨论 | 第47-65页 |
| ·Fe 掺杂 In_2O_3薄膜 X 射线衍射分析 | 第47-48页 |
| ·Fe 掺杂 In_2O_3薄膜表面形貌 | 第48-49页 |
| ·Fe 掺杂 In_2O_3薄膜的价态分析 | 第49-51页 |
| ·Fe 掺杂 In_2O_3薄膜的局域结构分析 | 第51-58页 |
| ·Fe 掺杂 In_2O_3薄膜的磁性分析 | 第58-59页 |
| ·Fe 掺杂 In_2O_3薄膜的光学性能研究 | 第59-61页 |
| ·Fe 掺杂 In_2O_3薄膜的输运性能研究 | 第61-63页 |
| ·Fe 掺杂 In_2O_3薄膜的磁电阻特性 | 第63-65页 |
| ·Fe 掺杂 In_2O_3薄膜的磁性来源 | 第65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第四章 Fe 掺杂 SiC 基稀磁半导体薄膜的结构与性能 | 第67-83页 |
| ·实验过程 | 第67页 |
| ·结果与讨论 | 第67-81页 |
| ·Fe 掺杂 SiC 薄膜 X 射线衍射分析 | 第67-68页 |
| ·Fe 掺杂 SiC 薄膜的局域结构分析 | 第68-74页 |
| ·Fe 掺杂 SiC 薄膜的价态分析 | 第74-76页 |
| ·Fe 掺杂 SiC 薄膜的磁性分析 | 第76-77页 |
| ·Fe 掺杂 SiC 薄膜的输运性能研究 | 第77-81页 |
| ·Fe 掺杂 SiC 薄膜的磁性来源 | 第81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 第五章 结论 | 第83-85页 |
| 参考文献 | 第85-90页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第90-91页 |
| 致谢 | 第91-92页 |
