| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| ·研究背景，意义和目的 | 第9-10页 |
| ·声表面波简介 | 第10-12页 |
| ·声表面波器件的结构和原理 | 第10页 |
| ·声表面波理论和器件的发展 | 第10-11页 |
| ·SAWD 的特点和应用 | 第11-12页 |
| ·SAWD 的材料工艺研究 | 第12-16页 |
| ·ZnO 压电薄膜 | 第12-14页 |
| ·AlN 压电薄膜 | 第14-15页 |
| ·金属缓冲层 | 第15-16页 |
| ·本论文的主要工作 | 第16-18页 |
| 第二章 ZnO/Al/AlN/Si 中相关参数的研究 | 第18-27页 |
| ·声表面波特性分析 | 第18-22页 |
| ·声表面波的激励方式 | 第18-19页 |
| ·考虑压电效应下的声表面波传播特性 | 第19-20页 |
| ·机电耦合系数 | 第20-22页 |
| ·声表面波的传播速度 | 第22-24页 |
| ·确定压电层厚度的方法 | 第24-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 多层压电介质中薄膜的制备 | 第27-36页 |
| ·薄膜的制备原理 | 第27-29页 |
| ·射频磁控溅射镀膜 | 第27页 |
| ·真空蒸镀法 | 第27-28页 |
| ·几种蒸发源 | 第28-29页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第29-35页 |
| ·AlN 薄膜的制备及表征 | 第29-30页 |
| ·Al 薄膜的制备及表征 | 第30-32页 |
| ·ZnO 薄膜的制备及表征 | 第32-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 ZnO/Al/AlN/Si 中 Al 膜对 ZnO 膜的影响 | 第36-45页 |
| ·不同基底的制备及表征 | 第36-39页 |
| ·ZnO/AlN/Si 基底制备及表征 | 第36-37页 |
| ·ZnO/Al/AlN/Si 基底制备及表征 | 第37-39页 |
| ·Al 膜对 ZnO 薄膜的影响研究 | 第39-41页 |
| ·Al 膜对 ZnO 薄膜K2的影响 | 第39-40页 |
| ·Al 膜对 ZnO 薄膜形貌的影响 | 第40页 |
| ·Al 膜对 ZnO 膜晶向的影响 | 第40-41页 |
| ·Al 缓冲层的最佳膜厚 | 第41-43页 |
| ·ZnO 薄膜结构的对比研究 | 第41-42页 |
| ·ZnO 薄膜形貌的对比研究 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第五章 总结与展望 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-50页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |