纳米压印设备的优化改进
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 课题研究的背景和意义 | 第8-9页 |
| 1.2 纳米压印技术简介 | 第9-13页 |
| 1.3 国内外相关研究的发展现状 | 第13-15页 |
| 1.4 本文的主要研究内容 | 第15-17页 |
| 第2章 温度控制系统的机械结构设计 | 第17-30页 |
| 2.1 温度对纳米压印的影响分析 | 第17-20页 |
| 2.2 纳米压印设备的温控性能指标 | 第20页 |
| 2.3 温度控制方案 | 第20-28页 |
| 2.3.1 温控结构设计 | 第21-27页 |
| 2.3.2 温控结构仿真 | 第27-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-30页 |
| 第3章 温度控制系统的硬件和软件设计 | 第30-43页 |
| 3.1 硬件总体结构设计 | 第30页 |
| 3.2 温度控制系统器件选择 | 第30-35页 |
| 3.3 控制系统软件主体设计 | 第35-39页 |
| 3.4 温度控制算法 | 第39-42页 |
| 3.4.1 PID控制原理 | 第39-41页 |
| 3.4.2 PID参数整定 | 第41-42页 |
| 3.5 本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 系统功能的优化 | 第43-50页 |
| 4.1 紫外曝光功能的改进 | 第43-45页 |
| 4.2 系统功能的集成 | 第45-46页 |
| 4.3 系统抗干扰性的提升 | 第46-48页 |
| 4.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第5章 实验与结果 | 第50-57页 |
| 5.1 温控系统性能测试 | 第50-54页 |
| 5.1.1 升温速度实验 | 第50-51页 |
| 5.1.2 冷却速度实验 | 第51-53页 |
| 5.1.3 温度升降实验 | 第53-54页 |
| 5.1.4 温度稳定性实验 | 第54页 |
| 5.2 压印实验 | 第54-56页 |
| 5.3 本章小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
