| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 引言 | 第6-10页 |
| 第一章 光刻、光罩的基本原理及概述 | 第10-20页 |
| 第一节 论文课题背景 | 第10-11页 |
| 第二节 光刻技术的发展 | 第11-15页 |
| 第三节 光罩基本结构和功能介绍 | 第15-17页 |
| 第四节 光罩在光刻中的作用和光罩技术发展 | 第17-20页 |
| 第二章 光罩结晶状缺陷的形态和成因分析 | 第20-28页 |
| 第一节 光罩结晶状缺陷的定义 | 第20-21页 |
| 第二节 光罩结晶状缺陷的成分 | 第21-22页 |
| 第三节 光罩结晶状缺陷的形成机理分析 | 第22-28页 |
| 2.3.1 光刻工艺参数K_1 | 第24页 |
| 2.3.2 晶圆尺寸的限制 | 第24-25页 |
| 2.3.3 光罩曝光波长的影响 | 第25-26页 |
| 2.3.4 光罩制作工艺的影响 | 第26页 |
| 2.3.5 光罩存储环境、使用方式的影响 | 第26-28页 |
| 第三章 光罩结晶状缺陷的预防和检测 | 第28-39页 |
| 第一节 光罩使用环境的改进 | 第28-30页 |
| 3.1.1 光刻工作区域环境的改善 | 第28-29页 |
| 3.1.2 光刻机内部环境的改善 | 第29-30页 |
| 3.1.3 光罩缺陷检测区域环境的改善 | 第30页 |
| 第二节 光罩存储环境的改进 | 第30-33页 |
| 3.2.1 光罩存放盒材料的改善 | 第30-31页 |
| 3.2.2 光罩存放盒存储架改善的改善 | 第31-32页 |
| 3.2.3 光罩等待时间(Queue-Time)的控制和自动提示功能 | 第32-33页 |
| 第三节 光罩清洗工艺的改进 | 第33-34页 |
| 第四节 光罩结晶状缺陷检测方法和检测频率的改进 | 第34-39页 |
| 第四章 总结 | 第39-41页 |
| 参考文献 | 第41-42页 |
| 致谢 | 第42-43页 |