考虑光刻的金属填充对关键面积的影响分析
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 1 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 可制造型技术发展 | 第8-11页 |
| 1.1.1 集成电路的发展 | 第8-9页 |
| 1.1.2 可制造性设计技术 | 第9-11页 |
| 1.2 考虑光刻的金属填充对关键面积影响的研究 | 第11-16页 |
| 1.2.1 关键面积分析的研究 | 第11-12页 |
| 1.2.2 光刻的相关研究 | 第12-13页 |
| 1.2.3 金属填充的相关研究 | 第13-15页 |
| 1.2.4 光刻及金属填充对关键面积影响的研究 | 第15-16页 |
| 1.3 本文的主要工作 | 第16-18页 |
| 2 关键面积与光刻畸变分析 | 第18-33页 |
| 2.1 关键面积分析原理 | 第18-23页 |
| 2.1.1 缺陷分布特征研究 | 第19-21页 |
| 2.1.2 通用良率评估模型 | 第21-23页 |
| 2.2 光刻畸变及产生原因 | 第23-27页 |
| 2.2.1 光刻相关工艺简介 | 第23-24页 |
| 2.2.2 光刻畸变的产生原因 | 第24-27页 |
| 2.3 光刻畸变对关键面积影响机理 | 第27-33页 |
| 2.3.1 本文关键面积分析机理 | 第27-30页 |
| 2.3.2 光刻畸变对关键面积的影响 | 第30-33页 |
| 3 冗余金属对关键面积的影响分析 | 第33-45页 |
| 3.1 冗余金属填充方法 | 第33-36页 |
| 3.1.1 冗余金属填充方法简介 | 第33-34页 |
| 3.1.2 不同方法填充下的版图比较 | 第34-36页 |
| 3.2 关键面积数据分析流程 | 第36-40页 |
| 3.2.1 关键面积分析整体流程 | 第36-38页 |
| 3.2.2 关键面积分析的脚本处理 | 第38-40页 |
| 3.3 金属填充对关键面积影响的数据分析 | 第40-45页 |
| 4 考虑光刻的金属填充对关键面积的影响分析 | 第45-59页 |
| 4.1 光刻后的版图关键面积分析实现 | 第45-51页 |
| 4.1.1 光刻仿真流程 | 第45-48页 |
| 4.1.2 光刻之后版图的关键面积分析流程 | 第48-51页 |
| 4.2 金属填充前后光刻对关键面积的影响 | 第51-59页 |
| 4.2.1 冗余金属填充前光刻对关键面积的影响 | 第51-52页 |
| 4.2.2 冗余金属填充后光刻对关键面积的影响 | 第52-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
