基于CFD的等离子体刻蚀数值模拟与参数优化
| 摘要 | 第4-5页 |
| 英文摘要 | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第10-11页 |
| 1.2 常用刻蚀方法及其原理 | 第11-12页 |
| 1.2.1 湿法刻蚀 | 第11页 |
| 1.2.2 干法刻蚀 | 第11-12页 |
| 1.3 几种常见的等离子体源 | 第12-14页 |
| 1.4 等离子体刻蚀设备及其工作原理 | 第14-15页 |
| 1.5 等离子体刻蚀研究进展 | 第15-17页 |
| 1.5.1 等离子体刻蚀国际研究现状 | 第15-16页 |
| 1.5.2 等离子体刻蚀国内研究现状 | 第16-17页 |
| 1.6 刻蚀质量评价 | 第17页 |
| 1.7 本文主要研究内容 | 第17-19页 |
| 2 等离子体刻蚀的理论基础与方程求解 | 第19-27页 |
| 2.1 控制方程及其求解 | 第19-21页 |
| 2.1.1 流体模型 | 第19-20页 |
| 2.1.2 热传递模型 | 第20页 |
| 2.1.3 磁场模型 | 第20-21页 |
| 2.2 等离子体模型基本理论 | 第21-27页 |
| 2.2.1 放电形式 | 第21-22页 |
| 2.2.2 基本方程 | 第22-23页 |
| 2.2.3 电子漂移扩散近似 | 第23页 |
| 2.2.4 离子动量方程 | 第23页 |
| 2.2.5 离子迁移率 | 第23-24页 |
| 2.2.6 表面等离子体化学 | 第24-27页 |
| 3 基于CFD的等离子体刻蚀模拟 | 第27-45页 |
| 3.1 基于CFD的ICP刻蚀模型 | 第27-34页 |
| 3.1.1 过程描述 | 第27页 |
| 3.1.2 主要控制方程 | 第27-28页 |
| 3.1.3 宏观腔室的气象反应机理 | 第28-30页 |
| 3.1.4 微观刻蚀的表面反应机理 | 第30-34页 |
| 3.2 跨尺度模型与模拟流程 | 第34-35页 |
| 3.2.1 跨尺度模型和模拟条件 | 第34-35页 |
| 3.2.2 实现流程 | 第35页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第35-43页 |
| 3.3.1 宏观腔室结果分析 | 第35-39页 |
| 3.3.2 微观刻蚀结果分析 | 第39-41页 |
| 3.3.3 各个参数对微观刻蚀形貌的影响 | 第41-43页 |
| 3.4 刻蚀均匀性分析 | 第43-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-45页 |
| 4 基于代理模型的优化 | 第45-59页 |
| 4.1 试验设计方法 | 第45-47页 |
| 4.1.1 全因子设计 | 第46页 |
| 4.1.2 部分因子设计 | 第46页 |
| 4.1.3 中心复合设计 | 第46-47页 |
| 4.1.4 拉丁超立方设计 | 第47页 |
| 4.2 常用的近似模型 | 第47-48页 |
| 4.2.1 多项式响应面模型 | 第47页 |
| 4.2.2 径向基函数模型 | 第47-48页 |
| 4.2.3 Kriging模型 | 第48页 |
| 4.3 优化模型 | 第48-50页 |
| 4.3.1 优化目标 | 第48-49页 |
| 4.3.2 设计变量 | 第49-50页 |
| 4.3.3 约束函数 | 第50页 |
| 4.3.4 优化模型 | 第50页 |
| 4.3.5 误差分析 | 第50页 |
| 4.4 优化算例 | 第50-57页 |
| 4.4.1 全因子设计 | 第50-54页 |
| 4.4.2 拉丁超立方设计 | 第54-57页 |
| 4.5 结果验证与误差分析 | 第57-58页 |
| 4.6 本章小结 | 第58-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
