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表面等离子体共振腔超衍射极限成像和光刻技术研究

中文摘要第4-6页
abstract第6-7页
第一章 绪论第10-18页
    1.1 研究背景第10页
    1.2 研究现状第10-16页
        1.2.1 表面等离子体激元光刻技术研究第11-14页
        1.2.2 表面等离子体激元超分辨显微成像研究第14-16页
    1.3 本论文的主要内容第16-18页
第二章 表面等离子体激元的原理第18-27页
    2.1 表面等离子体激元的基本理论第18-21页
        2.1.1 局域表面等离子体第18-19页
        2.1.2 表面等离子体极化激元第19-21页
    2.2 激发表面等离子体激元的几种途径第21-24页
        2.2.1 棱镜耦合激发第22页
        2.2.2 光栅结构激发第22-23页
        2.2.3 近场耦合激发第23页
        2.2.4 波导耦合激发第23-24页
        2.2.5 强聚焦光束激发第24页
    2.3 表面等离子体的特征长度参数第24-26页
        2.3.1 表面等离子体波长第24-25页
        2.3.2 表面等离子体传播长度第25页
        2.3.3 表面等离子体在介质和金属中的穿透深度第25-26页
    2.4 时域有限差分数值计算方法第26页
    2.5 本章小结第26-27页
第三章 表面等离子体共振腔超分辨光学显微成像第27-37页
    3.1 表面等离子体共振腔结构分析第28-29页
    3.2 表面等离子体共振腔显微成像分析第29-36页
        3.2.1 数值模拟第29-31页
        3.2.2 SPRC结构的表面等离子体激元色散关系第31-34页
        3.2.3 SPRC结构在超分辨光学显微成像上的应用第34-35页
        3.2.4 SPRC腔长对光学显微镜成像分辨率的影响第35-36页
    3.3 本章小结第36-37页
第四章 双表面等离子体共振腔干涉光刻技术第37-46页
    4.1 表面等离子体共振腔干涉光刻技术第37-38页
    4.2 单双表面等离子体腔色散关系分析第38-41页
        4.2.1 单表面等离子体共振腔色散关系第38页
        4.2.2 双表面等离子体共振腔色散关系第38-41页
    4.3 双表面等离子体共振腔的特性分析第41-42页
    4.4 双共振腔干涉光刻技术不同光刻胶厚度条纹分辨率的影响第42-45页
    4.5 本章小结第45-46页
第五章 双表面等离子体共振腔超透镜成像第46-54页
    5.1 双表面等离子体共振腔超透镜模型第46-47页
    5.2 双表面等离子体共振腔超透镜成像系统数值模拟第47-48页
    5.3 双表面等离子体共振腔超透镜成像系统理论分析第48-53页
    5.4 本章小结第53-54页
第六章 总结和展望第54-56页
    6.1 总结第54-55页
    6.2 展望第55-56页
参考文献第56-61页
攻读硕士学位期间公开发表的论文第61-62页
致谢第62-63页

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