| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| TABLE OF CONTENTS | 第11-14页 |
| 图目录 | 第14-17页 |
| 表目录 | 第17-19页 |
| 主要符号表 | 第19-24页 |
| 1 绪论 | 第24-53页 |
| 1.1 课题的研究背景及意义 | 第24-34页 |
| 1.2 薄膜/基底界面结合强度的研究现状 | 第34-51页 |
| 1.2.1 界面结合强度的测量方法 | 第34-44页 |
| 1.2.2 SU-8光刻胶与金属基底界面结合强度的影响因素 | 第44-48页 |
| 1.2.3 提高SU-8光刻胶与金属基底结合强度的研究现状 | 第48-51页 |
| 1.3 本文的研究内容 | 第51-53页 |
| 2 界面结合强度评价方法及其理论模型 | 第53-71页 |
| 2.1 引言 | 第53-54页 |
| 2.2 薄膜与基底结合强度评价方法 | 第54-67页 |
| 2.2.1 垂直拉伸法理论模型 | 第54-56页 |
| 2.2.2 压痕法理论模型 | 第56-59页 |
| 2.2.3 划痕法理论模型 | 第59-67页 |
| 2.3 薄膜内应力及其评价方法 | 第67-70页 |
| 2.3.1 薄膜内应力产生的原因 | 第67-68页 |
| 2.3.2 内应力的测量方法 | 第68页 |
| 2.3.3 内应力测量的理论模型 | 第68-70页 |
| 2.4 本章小结 | 第70-71页 |
| 3 SU-8光刻胶与金属基底界面结合强度评估方法 | 第71-101页 |
| 3.1 引言 | 第71页 |
| 3.2 垂直拉伸法测量 | 第71-75页 |
| 3.2.1 实验研究 | 第72-74页 |
| 3.2.2 结果分析与讨论 | 第74-75页 |
| 3.3 压痕法测量 | 第75-86页 |
| 3.3.1 理论模型 | 第75-78页 |
| 3.3.2 仿真研究 | 第78-80页 |
| 3.3.3 实验研究 | 第80-84页 |
| 3.3.4 结果分析与讨论 | 第84-86页 |
| 3.4 划痕法测量 | 第86-99页 |
| 3.4.1 理论模型 | 第86-90页 |
| 3.4.2 仿真研究 | 第90-93页 |
| 3.4.3 实验研究 | 第93页 |
| 3.4.4 结果分析与讨论 | 第93-99页 |
| 3.5 SU-8光刻胶与金属基底界面结合强度测量方法比较 | 第99-100页 |
| 3.6 本章小结 | 第100-101页 |
| 4 SU-8光刻胶与金属基底界面结合强度的分子动力学模拟 | 第101-121页 |
| 4.1 引言 | 第101-102页 |
| 4.2 分子动力学模拟的理论及方法 | 第102-105页 |
| 4.2.1 分子动力学模拟 | 第102页 |
| 4.2.2 分子动力学模拟的基本步骤 | 第102-103页 |
| 4.2.3 分子力场 | 第103-104页 |
| 4.2.4 热力学系统 | 第104页 |
| 4.2.5 温度控制的方法 | 第104-105页 |
| 4.3 SU-8光刻胶与金属Ni基底界面结合性能分子动力学模拟 | 第105-109页 |
| 4.3.1 SU-8光刻胶与金属Ni基底界面模型的构建 | 第105-107页 |
| 4.3.2 粘附功计算 | 第107-108页 |
| 4.3.3 前烘参数对粘附功影响的模拟方法 | 第108-109页 |
| 4.4 SU-8光刻胶与金属Ni基底粘附功的实验测量 | 第109-111页 |
| 4.5 结果分析与讨论 | 第111-119页 |
| 4.5.1 前烘温度对界面结合性能的影响 | 第111-118页 |
| 4.5.2 前烘时间对界面结合性能的影响 | 第118-119页 |
| 4.6 本章小结 | 第119-121页 |
| 5 超声处理对SU-8光刻胶内应力的影响 | 第121-135页 |
| 5.1 引言 | 第121-122页 |
| 5.2 超声处理对SU-8光刻胶内应力影响机理研究 | 第122-126页 |
| 5.2.1 SU-8光刻胶内应力的产生原因 | 第122-124页 |
| 5.2.2 超声波的作用原理 | 第124页 |
| 5.2.3 超声处理对SU-8光刻胶内应力影响机理 | 第124-126页 |
| 5.3 超声处理实验 | 第126-130页 |
| 5.3.1 超声实验装置及实验步骤 | 第126-128页 |
| 5.3.2 实验结果与分析 | 第128-130页 |
| 5.4 超声处理对SU-8光刻胶微结构的影响 | 第130-134页 |
| 5.4.1 实验步骤 | 第130-131页 |
| 5.4.2 实验过程与分析 | 第131-134页 |
| 5.5 本章小结 | 第134-135页 |
| 6 超声处理对SU-8光刻胶与金属基底界面结合强度的影响 | 第135-149页 |
| 6.1 引言 | 第135-136页 |
| 6.2 超声处理实验 | 第136-140页 |
| 6.3 超声结果与分析 | 第140-148页 |
| 6.3.1 超声时间对界面结合强度的影响 | 第142-144页 |
| 6.3.2 超声功率对界面结合强度的影响 | 第144-147页 |
| 6.3.3 超声提高SU-8光刻胶与金属基底界面结合强度的新方法 | 第147-148页 |
| 6.4 本章小结 | 第148-149页 |
| 7 结论与展望 | 第149-152页 |
| 7.1 结论与创新点 | 第149-150页 |
| 7.2 创新点摘要 | 第150-151页 |
| 7.3 展望 | 第151-152页 |
| 参考文献 | 第152-159页 |
| 致谢 | 第159-160页 |
| 攻读博士学位期间科研项目及科研成果 | 第160-162页 |
| 作者简介 | 第162-163页 |
| 附件 | 第163页 |
| 徐文骥老师 | 第163页 |
| 孙伟老师 | 第163页 |
| 邢英杰老师 | 第163页 |
| 马跃老师 | 第163页 |
