| 摘要 | 第2-3页 |
| ABSTRACT | 第3页 |
| 第一章 前言 | 第8-10页 |
| 1.1 论文背景——静电吸盘之于产品，制造商 | 第8页 |
| 1.2 研究目的——深入了解ESC 在多晶硅刻蚀应用中对产品的影响，保证产品的品质，节约运行成本 | 第8-9页 |
| 1.3 论文结构 | 第9-10页 |
| 第二章 双极型静电吸盘（Bipolar ESC） | 第10-14页 |
| 2.1 静电吸引力 | 第10-12页 |
| 2.2 双极型 ESC | 第12-13页 |
| 2.3 本章小结 | 第13-14页 |
| 第三章 等离子体刻蚀技术简介及实时监控系统的实施 | 第14-25页 |
| 3.1 等离子体刻蚀技术 | 第14-16页 |
| 3.1.1 等离子体刻蚀的原理及作用 | 第14-16页 |
| 3.1.2 电势分布及DC Bias | 第16页 |
| 3.2 多晶硅刻蚀应用 | 第16-19页 |
| 3.3 实时监控系统的实施 | 第19-23页 |
| 3.3.1 SPC 系统 | 第19页 |
| 3.3.2 Lam Research TCP9400 等离子刻蚀机简介 | 第19-20页 |
| 3.3.3 设备运行状态的监控 | 第20-22页 |
| 3.3.4 设备监控参数的选择 | 第22-23页 |
| 3.4 半导体中的 DOE 方法 | 第23-24页 |
| 3.5 本章小结 | 第24-25页 |
| 第四章 双极型 ESC 各参数对产品的影响 | 第25-39页 |
| 4.1 夹持电压产品的影响 | 第25-33页 |
| 4.2 电压补偿对产品的影响 | 第33-35页 |
| 4.3 ESC 工作状态的监控 | 第35-38页 |
| 4.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第五章 ESC使用寿命的延长 | 第39-46页 |
| 5.1 预防性维护（Preventative Maintenance） | 第39-40页 |
| 5.2 晶圆缺角的角度 | 第40-41页 |
| 5.3 WAC 工艺菜单的优化 | 第41-44页 |
| 5.4 ESC 更换的标准 | 第44页 |
| 5.5 本章小结 | 第44-46页 |
| 第六章 总结 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第49-52页 |
| 上海交通大学学位论文答辩决议书 | 第52页 |
