致谢 | 第5-7页 |
摘要 | 第7-9页 |
Abstract | 第9-11页 |
目录 | 第12-15页 |
插图目录 | 第15-18页 |
表格目录 | 第18-19页 |
第1章 绪论 | 第19-35页 |
1.1 引言 | 第19-20页 |
1.2 集成电路制造工艺流程 | 第20-23页 |
1.3 光刻技术面临的挑战以及光学邻近效应 | 第23-26页 |
1.4 纳米级集成电路制造分辨率增强技术 | 第26-30页 |
1.4.1 离轴照明 | 第27-28页 |
1.4.2 次分辨率辅助图形 | 第28-29页 |
1.4.3 移相掩模 | 第29-30页 |
1.5 纳米级集成电路可制造性设计技术 | 第30-32页 |
1.6 论文的研究内容、创新点以及论文的安排 | 第32-34页 |
1.7 本章小结 | 第34-35页 |
第2章 光学邻近校正技术、双重图形技术和热点检测技术 | 第35-53页 |
2.1 引言 | 第35-36页 |
2.2 光学邻近校正技术 | 第36-40页 |
2.2.1 基于规则的光学邻近校正 | 第36-37页 |
2.2.2 基于模型的光学邻近校正技术 | 第37-40页 |
2.3 反向光刻技术 | 第40-43页 |
2.4 双重图形光刻技术 | 第43-48页 |
2.4.1 LFLE双重图形技术 | 第44-45页 |
2.4.2 LELE双重图形技术 | 第45-46页 |
2.4.3 自对准双重图形技术 | 第46-47页 |
2.4.4 双重图形技术版图分解 | 第47-48页 |
2.5 热点检测技术 | 第48-51页 |
2.5.1 基于光刻仿真的热点检测技术 | 第48-49页 |
2.5.2 基于热点库与模式识别的热点检测技术 | 第49-50页 |
2.5.3 基于机器学习的热点检测技术 | 第50-51页 |
2.6 本章小结 | 第51-53页 |
第3章 反向光刻版图重定向算法与区别化层次管理方法 | 第53-97页 |
3.1 引言 | 第53-54页 |
3.2 基于支持向量机的反向光刻版图重定向算法 | 第54-84页 |
3.2.1 规则化的水平集反向光刻优化算法 | 第56-64页 |
3.2.2 用于版图重定向的支持向量机模型训练 | 第64-69页 |
3.2.3 基于点的版图重定向算法 | 第69-76页 |
3.2.4 实验结果与讨论 | 第76-84页 |
3.3 用于光学邻近校正的区别化层次管理方法 | 第84-96页 |
3.3.1 光学邻近校正环境以及传统的基于单元的层次化管理方法 | 第85-89页 |
3.3.2 区别化层次管理技术 | 第89-92页 |
3.3.3 实验结果与讨论 | 第92-96页 |
3.4 本章小结 | 第96-97页 |
第4章 多目标的自对准双重图形分解算法 | 第97-114页 |
4.1 引言 | 第97-99页 |
4.2 基于可满足性问题的自对准双重图形分解 | 第99-102页 |
4.2.1 自对准双重图形工艺过程约束条件转化 | 第100-101页 |
4.2.2 掩模版图设计规则约束条件转换 | 第101-102页 |
4.3 多目标的自对准双重图形分解算法 | 第102-108页 |
4.3.1 基于图论的核心掩模密度平衡方法 | 第103-104页 |
4.3.2 重叠误差约束 | 第104-107页 |
4.3.3 掩模规则化约束 | 第107-108页 |
4.4 实验结果与讨论 | 第108-113页 |
4.5 本章小结 | 第113-114页 |
第5章 改进的基于机器学习的热点检测算法 | 第114-129页 |
5.1 引言 | 第114-115页 |
5.2 基于支持向量机的热点检测 | 第115-118页 |
5.2.1 基于线段的热点检测图形定位 | 第115-116页 |
5.2.2 基于支持向量机的热点检测流程 | 第116-117页 |
5.2.3 基于机器学习的热点检测评价指标 | 第117-118页 |
5.3 稀疏矩阵特征提取方法 | 第118-121页 |
5.4 热点检测准确度增强技术 | 第121-123页 |
5.4.1 改进的层次化热点检测方法 | 第121-123页 |
5.4.2 网格化的热点检测参数优化 | 第123页 |
5.5 实验结果与讨论 | 第123-128页 |
5.5.1 稀疏矩阵特征提取方法测试与比较 | 第124-126页 |
5.5.2 改进的层次化热点检测方法测试与比较 | 第126-128页 |
5.6 本章小结 | 第128-129页 |
第6章 总结与展望 | 第129-132页 |
6.1 论文总结 | 第129-131页 |
6.2 工作展望 | 第131-132页 |
参考文献 | 第132-141页 |
作者简历及在学期间取得的科研成果 | 第141-142页 |