| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| 1.1 大高宽比微纳结构的应用 | 第7页 |
| 1.2 大高宽比微纳结构制备技术的发展与现状 | 第7-12页 |
| 1.3 论文的研究目的和内容 | 第12-13页 |
| 第二章 电子束光刻技术 | 第13-19页 |
| 2.1 电子束光刻技术基本工作原理及系统组成 | 第13-14页 |
| 2.2 电子束光刻工艺概述 | 第14-16页 |
| 2.3 电子抗蚀剂 | 第16-17页 |
| 2.4 电子抗蚀剂关键性能 | 第17-18页 |
| 2.5 本章小结 | 第18-19页 |
| 第三章 电子束曝光邻近效应校正 | 第19-31页 |
| 3.1 电子束邻近效应机理 | 第19-22页 |
| 3.2 电子束邻近效应校正技术 | 第22-23页 |
| 3.3 电子束邻近效应校正数据处理技术 | 第23-28页 |
| 3.4 电子束邻近效应上考虑的曝光版图可制造性设计问题 | 第28-30页 |
| 3.5 本章小结 | 第30-31页 |
| 第四章 抗蚀剂图形结构的粘连与倒塌问题研究 | 第31-38页 |
| 4.1 抗蚀剂图形结构的粘连与倒塌 | 第31-32页 |
| 4.2 抗蚀剂图形结构粘连与倒塌成因分析 | 第32-35页 |
| 4.3 抗蚀剂图形结构粘连与倒塌的解决方法 | 第35-36页 |
| 4.4 超临界流体干燥技术 | 第36-37页 |
| 4.5 本章小结 | 第37-38页 |
| 第五章 大高宽比微纳结构的制备 | 第38-54页 |
| 5.1 电子束曝光剂量优化 | 第38-41页 |
| 5.2 钠离子在显影中的作用 | 第41-43页 |
| 5.3 超临界CO_2干燥 | 第43-45页 |
| 5.4 反向直流脉冲电镀 | 第45-53页 |
| 5.5 本章小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-57页 |