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等离子刻蚀机下位机控制系统的设计与实现

摘要第4-5页
Abstract第5页
第一章 绪论第8-18页
    1.1 研究背景与意义第8-9页
    1.2 本课题的研究进展第9-15页
        1.2.1 等离子刻蚀研究现状第9-11页
        1.2.2 刻蚀设备控制研究现状第11-13页
        1.2.3 工业控制平台研究现状第13-15页
    1.3 本文主要研究内容第15-18页
第二章 等离子刻蚀机下位机控制系统的需求分析与总体架构第18-40页
    2.1 等离子刻蚀机下位机控制系统的需求分析第18-19页
        2.1.1 功能需求第18-19页
        2.1.3 性能需求第19页
    2.2 等离子刻蚀机下位机控制系统的总体设计第19-24页
        2.2.1 工厂控制系统总体结构第19-21页
        2.2.2 系统的模块划分第21-23页
        2.2.3 系统的层次划分第23-24页
    2.3 刻蚀机器件的控制方法第24-37页
    2.4 部署环境设计第37-38页
    2.5 本章小结第38-40页
第三章 系统关键模块的详细设计与实现第40-64页
    3.1 IO通讯模块的设计与实现第40-46页
        3.1.1 Data对象的分类第40-42页
        3.1.2 通讯方式及具体实现第42-46页
        3.1.3 Poll和Subscriber第46页
    3.2 Control模块的设计与实现第46-51页
        3.2.1 ControlObject设计实现第46-49页
        3.2.2 Service的设计实现第49页
        3.2.3 服务的调用方式第49-51页
    3.3 Alarm模块的设计与实现第51-56页
        3.3.1 Alarm分类和构成第52-53页
        3.3.2 Recovery接口设计第53-54页
        3.3.3 Alarm的报警方式第54-56页
    3.4 Interlock模块的设计与实现第56-60页
        3.4.1 SetValueInterlock第56-58页
        3.4.2 OverrunInterlock第58-60页
    3.5 Recipe模块的设计与实现第60-62页
        3.5.1 基于SEMI标准的Recipe结构设计第60页
        3.5.2 recipe管理方式与执行方式的设计与实现第60-62页
    3.6 本章小结第62-64页
第四章 系统的测试与分析第64-68页
    4.1 系统运行环境第64-65页
    4.2 系统功能测试第65-67页
    4.3 系统性能测试与分析第67页
    4.4 本章小结第67-68页
第五章 结论与展望第68-70页
    5.1 论文工作总结第68页
    5.2 未来工作展望第68-70页
参考文献第70-72页
致谢第72-74页
个人简历、在学期间发表的论文与研究成果第74页

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