摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
第一章 绪论 | 第8-18页 |
1.1 研究背景与意义 | 第8-9页 |
1.2 本课题的研究进展 | 第9-15页 |
1.2.1 等离子刻蚀研究现状 | 第9-11页 |
1.2.2 刻蚀设备控制研究现状 | 第11-13页 |
1.2.3 工业控制平台研究现状 | 第13-15页 |
1.3 本文主要研究内容 | 第15-18页 |
第二章 等离子刻蚀机下位机控制系统的需求分析与总体架构 | 第18-40页 |
2.1 等离子刻蚀机下位机控制系统的需求分析 | 第18-19页 |
2.1.1 功能需求 | 第18-19页 |
2.1.3 性能需求 | 第19页 |
2.2 等离子刻蚀机下位机控制系统的总体设计 | 第19-24页 |
2.2.1 工厂控制系统总体结构 | 第19-21页 |
2.2.2 系统的模块划分 | 第21-23页 |
2.2.3 系统的层次划分 | 第23-24页 |
2.3 刻蚀机器件的控制方法 | 第24-37页 |
2.4 部署环境设计 | 第37-38页 |
2.5 本章小结 | 第38-40页 |
第三章 系统关键模块的详细设计与实现 | 第40-64页 |
3.1 IO通讯模块的设计与实现 | 第40-46页 |
3.1.1 Data对象的分类 | 第40-42页 |
3.1.2 通讯方式及具体实现 | 第42-46页 |
3.1.3 Poll和Subscriber | 第46页 |
3.2 Control模块的设计与实现 | 第46-51页 |
3.2.1 ControlObject设计实现 | 第46-49页 |
3.2.2 Service的设计实现 | 第49页 |
3.2.3 服务的调用方式 | 第49-51页 |
3.3 Alarm模块的设计与实现 | 第51-56页 |
3.3.1 Alarm分类和构成 | 第52-53页 |
3.3.2 Recovery接口设计 | 第53-54页 |
3.3.3 Alarm的报警方式 | 第54-56页 |
3.4 Interlock模块的设计与实现 | 第56-60页 |
3.4.1 SetValueInterlock | 第56-58页 |
3.4.2 OverrunInterlock | 第58-60页 |
3.5 Recipe模块的设计与实现 | 第60-62页 |
3.5.1 基于SEMI标准的Recipe结构设计 | 第60页 |
3.5.2 recipe管理方式与执行方式的设计与实现 | 第60-62页 |
3.6 本章小结 | 第62-64页 |
第四章 系统的测试与分析 | 第64-68页 |
4.1 系统运行环境 | 第64-65页 |
4.2 系统功能测试 | 第65-67页 |
4.3 系统性能测试与分析 | 第67页 |
4.4 本章小结 | 第67-68页 |
第五章 结论与展望 | 第68-70页 |
5.1 论文工作总结 | 第68页 |
5.2 未来工作展望 | 第68-70页 |
参考文献 | 第70-72页 |
致谢 | 第72-74页 |
个人简历、在学期间发表的论文与研究成果 | 第74页 |