激光干涉光刻制备微纳结构的表面积计算及其特性分析

摘要	第4-5页
ABSTRACT	第5页
第一章 绪论	第7-11页
1.1 引言	第7-9页
1.1.1 激光干涉光刻技术的现状	第7-9页
1.1.2 研究目的和意义	第9页
1.2 本文的研究内容与创新点	第9-10页
1.3 本文的结构安排	第10-11页
第二章 微纳结构表面积的计算	第11-20页
2.1 基于AFM扫描样品形貌图像的表面面积计算	第11-16页
2.2 基于SEM扫描样品形貌图像的表面面积计算	第16-18页
2.3 表面积的验证及模拟计算	第18-20页
第三章 激光干涉光刻制备微纳结构	第20-31页
3.1 相干光干涉的基本理论	第20-21页
3.2 双光束干涉	第21-22页
3.3 三光束干涉	第22-24页
3.4 四光束干涉	第24-25页
3.5 微纳结构样品制备	第25-31页
3.5.1 双光束干涉单曝光	第26-27页
3.5.2 三光束干涉单曝光	第27-28页
3.5.3 四光束干涉曝光	第28-31页
第四章 微纳结构表面积及其特性分析	第31-45页
4.1 减反射特性与表面面积之间的关系	第31-37页
4.2 光电转换特性与表面面积的关系	第37-40页
4.3 疏水特性与表面面积变化之间的关系	第40-45页
第五章 总结和展望	第45-47页
5.1 总结	第45页
5.2 展望	第45-47页
致谢	第47-48页
参考文献	第48-50页