光刻机双工件台轨迹规划算法研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 课题来源 | 第9页 |
| 1.2 课题背景及研究意义 | 第9-10页 |
| 1.3 国内外光刻机发展概述 | 第10-14页 |
| 1.3.1 国外光刻机发展概述 | 第10-13页 |
| 1.3.2 国内光刻机发展概述 | 第13-14页 |
| 1.4 光刻机系统中轨迹规划研究现状 | 第14-16页 |
| 1.5 本文研究主要内容 | 第16-17页 |
| 第2章 硅片扫描路径规划 | 第17-27页 |
| 2.1 引言 | 第17页 |
| 2.2 硅片的曝光过程 | 第17-19页 |
| 2.3 遗传算法与旅行商问题 | 第19-21页 |
| 2.3.1 遗传算法理论基础 | 第19-20页 |
| 2.3.2 旅行商问题模型 | 第20-21页 |
| 2.4 硅片扫描路径规划问题求解 | 第21-24页 |
| 2.4.1 光刻机路径规划的数学模型 | 第21-22页 |
| 2.4.2 遗传算法寻优步骤 | 第22-24页 |
| 2.5 路径优化仿真结果及分析 | 第24-26页 |
| 2.6 本章小结 | 第26-27页 |
| 第3章 步进扫描过程中的轨迹规划 | 第27-40页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 轨迹规划方法概述 | 第27-30页 |
| 3.2.1 轨迹规划特点 | 第27-28页 |
| 3.2.2 轨迹规划方法研究 | 第28-30页 |
| 3.3 步进扫描运动分析 | 第30-31页 |
| 3.4 扫描运动中的 3 阶 S 曲线设计 | 第31-34页 |
| 3.4.1 三阶 S 曲线轨迹分析 | 第32页 |
| 3.4.2 三阶 S 曲线公式推导与算法实现 | 第32-34页 |
| 3.5 扫描运动中的 5 阶 S 曲线算法实现 | 第34-36页 |
| 3.6 步进运动中的改进运动轨迹设计 | 第36-39页 |
| 3.7 本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 双工件台换台过程控制算法研究 | 第40-50页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 双工件台技术分析 | 第40-44页 |
| 4.2.1 双工件台技术思想 | 第40-41页 |
| 4.2.2 双工件台换台方案分析 | 第41-44页 |
| 4.3 时间最优的 bang-bang 控制 | 第44-47页 |
| 4.4 时间-冲击最优的点对点运动控制 | 第47-49页 |
| 4.5 本章小结 | 第49-50页 |
| 第5章 仿真与实验验证 | 第50-72页 |
| 5.1 引言 | 第50页 |
| 5.2 仿真模型的搭建 | 第50-58页 |
| 5.2.1 工件台掩模台总体结构 | 第50-52页 |
| 5.2.2 音圈电机和直线电机模型 | 第52-54页 |
| 5.2.3 粗-精耦合模型 | 第54-56页 |
| 5.2.4 粗-精简化模型 | 第56-58页 |
| 5.3 轨迹规划算法仿真验证 | 第58-64页 |
| 5.3.1 扫描运动中的仿真验证 | 第58-62页 |
| 5.3.2 步进运动中的仿真验证 | 第62-64页 |
| 5.4 换台过程的仿真验证 | 第64-69页 |
| 5.4.1 旋转换台方法仿真验证 | 第64-66页 |
| 5.4.2 双驱双桥换台方法仿真验证 | 第66-69页 |
| 5.5 轨迹规划算法验证实验 | 第69-71页 |
| 5.5.1 实验平台的搭建 | 第69-70页 |
| 5.5.2 主板卡与运动控制卡程序设计 | 第70页 |
| 5.5.3 轨迹规划算法验证实验 | 第70-71页 |
| 5.6 本章小结 | 第71-72页 |
| 结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第78-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
