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精密机械平台摩擦特性的建模和补偿方法
掺杂金红石相宽禁带半导体磁性及介电性质的研究
ZnO纳米材料及PbS QDs/ZnO异质结制备和光电性能研究
基于无穷刚度和零刚度复合作用的主动负刚度隔微振技术
氮空位引起的氮化铟相变—第一性原理研究
C对ZnS:Co磁性的调制作用研究
Ⅱ-Ⅵ族半导体纳米晶的掺杂调控合成及光电性能研究
基于像素表征的光刻掩模优化方法研究
ZnS的p型掺杂及其光学性质的理论研究
基于新型共聚物和钙钛矿材料的激光性能研究
4H-SiC欧姆接触研究及其应用
Zn、Cu掺杂AlN纳米结构的制备及发光性能的研究
应变及掺杂对GaN及InN光电性质影响的第一性原理研究
Mn、Cr双掺ZnO的磁光性质的研究
有机半导体材料中电荷转移的理论研究
化学机械抛光中颗粒运动与材料去除的实验研究
ZnO基半导体电致发光材料与器件的理论研究
高数值孔径投影光刻物镜的光学设计
极紫外光刻物镜系统光学设计研究
曲面微纳结构的静电诱导成形原理与工艺研究
CVD法制备石墨烯及其在有机薄膜晶体管中的应用
硅基纳米孔阵列制造技术基础研究
高铟组分铟镓氮材料的超快载流子动力学研究
单元素窄禁带半导体纳米结构的第一性原理研究
低维材料杂质和缺陷的理论研究和应用
压电半导体结构中的几类典型导波
基于双重预测PI的单晶硅直径控制系统
典型半导体材料电学性能的温度依赖特性研究
多孔阳极氧化铝的“逆向工程”—刻蚀研究
In2S3薄膜的磁控溅射法制备及性能研究
基于HF溶液选择性刻蚀的单晶硅亚表面非晶损伤层探测方法研究
单晶硅表面氢钝化时效性及其对摩擦学性能的影响
碘化铯荧光量子点增强光刻胶光刻效果的研究
微/纳尺度氧化亚铜的可控制备及其可见光光催化特性
基于纳米压印技术的亚波长结构减反射膜的制备与研究
DRAM栅极等离子刻蚀制程中颗粒污染问题的改善
红荧烯分子单重态激子裂变的分子间距依赖关系的研究
冶金硅渣氧化行为及其多孔材料的制备和性能研究
局部应变对低维半导体材料的性质调制
大气等离子抛光定量去除方法研究
砷化镓表面化学约束刻蚀的有限元仿真及实验研究
基于激基复合物有机半导体器件的磁场效应研究
准分子激光辐照氮化镓外延片及其改性研究
基于365nm LED光源的无掩模数字光刻特性研究
基于芬顿反应的单晶SiC化学机械抛光加工研究
半导体生产线动态维护策略研究
ZnO/GaN直接键合工艺的研究
AlGaN超晶格界面调控及其电学特性
SiC衬底GaN基材料MOCVD生长及HEMT器件研制
无味卡尔曼滤波在直拉法单晶硅直径控制中的应用研究
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