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单元素窄禁带半导体纳米结构的第一性原理研究

摘要第6-7页
ABSTRACT第7页
第一章 绪论第11-20页
    1.1 半导体纳米材料的特性第11-13页
        1.1.1 表面效应第11-12页
        1.1.2 量子限制效应第12-13页
        1.1.3 宏观量子隧道效应第13页
    1.2 半导体纳米材料表面性质第13-17页
        1.2.1 表面电子态第13-14页
        1.2.2 表面能第14-15页
        1.2.3 表面重构第15-17页
    1.3 半导体纳米材料的光学性质第17-18页
        1.3.1 光谱吸收峰的蓝移和红移第17页
        1.3.2 宽频带强吸收第17页
        1.3.3 发光效率提高第17-18页
    1.4 本文研究的出发点和意义第18-20页
第二章 第一性原理计算方法概述第20-29页
    2.1 固体能带理论的两个近似第20-23页
        2.1.1 绝热近似第20-21页
        2.1.2 单电子近似第21-23页
    2.2 密度泛函理论第23-27页
        2.2.1 Hohenberg-Kohn定理第24-25页
        2.2.2 Kohn-Sham方程第25页
        2.2.3 交换关联泛函第25-27页
    2.3 基于第一性原理的计算软件-VASP第27-29页
第三章 VA族单元素砷二维褶皱蜂窝层状结构的间接—直接带隙转变第29-42页
    3.1 引言第29-32页
    3.2 计算方法第32页
    3.3 厚度对能带结构的影响第32-39页
    3.4 面内应变对带边的影响第39-41页
    3.5 小结第41-42页
第四章 VIA族单元素碲表面性质、能带结构、光学性质研究第42-62页
    4.1 引言第42-44页
    4.2 计算方法第44页
    4.3 不同密勒指数表面研究第44-51页
    4.4 低密勒指数面构成的纳米结构的能带结构研究第51-52页
    4.5 碲晶体的光学吸收峰来源探索第52-57页
    4.6 尺寸对纳米线与纳米带结构的吸收峰与带隙的影响第57-60页
    4.7 小结第60-62页
第五章 结论与展望第62-63页
参考文献第63-70页
致谢第70-71页
攻读学位期间的研究成果第71页

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