当前位置：
首页
--
工业技术
--
无线电电子学、电信技术
--
半导体技术
--
一般性问题
AlGaN沟道异质结材料生长优化与高压HEMT器件研究
InN外延薄膜成核与重构的机理研究
立方体GaN材料及其异质结输运特性的相关研究
化学气相淀积石墨烯在不同衬底上的表征以及多层石墨烯在有机太阳能电池中的应用
应变Ge载流子迁移率散射机制及模型研究
基于3C-SiC外延生长石墨烯的方法与侧栅石墨烯晶体管模拟的研究
晶圆级单轴应变SOI制备及有限元模拟研究
氮化物双异质结材料优化生长及其载流子输运性质研究
应变锗应变张量模型及导带能级结构的研究
PMOCVD生长InAIN的计算流体动力学模拟研究
高精度掩模版电子束光刻关键技术研究
GaSb欧姆接触制备及电学特性研究
化学法制备黑硅薄膜及性能研究
GaN/Si材料的外延生长研究
NiO薄膜的制备及其掺杂技术研究
激光干涉图案的二维相移控制研究
三光束大面积光刻及表面结构检测
卤化氧铋单体及复合异质结半导体材料的制备与性能研究
晶圆测试自动传输系统的结构设计与优化
半导体生产线仿真模型简化方法及高效智能调度算法
Zn在Ⅲ-V族半导体中的扩散机理与低禁带红外电池制备的研究
基于数字微镜芯片的无模光刻微加工技术研究
氧化锌—石墨烯杂化材料的性能和机理研究
氧化锌纳米结构薄膜的微结构及光电特性调控
具有复杂结构的硅基MEMS压力敏感膜片的制作及其应用研究
THz光栅结构UV-LIGA光刻工艺研究
Ⅲ族化合物半导体薄膜的制备及气敏性能研究
镉/钛基纳米复合半导体材料的制备及其光催化性能研究
Mn掺ZnO基稀磁半导体的制备与结构研究
化学气相沉积法制备氟掺杂氧化锡薄膜及其性能研究
光学材料均匀性对光学系统像质影响研究
棒状ZnO基稀磁半导体的制备及性能研究
P-MBE法生长ZnMgO合金薄膜及其异质结构的性能研究
非极性ZnO基薄膜制备及Na掺杂和ZnMgO/ZnO多量子阱研究
应用于深亚波长光刻的光学邻近校正技术研究
直拉单晶硅中杂质和缺陷的行为：重掺杂和共掺杂的影响
用于溶液工艺光电器件的金属氧化物界面层材料研究
低维硅材料表面效应的密度泛函研究
ZnOS合金薄膜及S-N共掺杂p型ZnO薄膜的结构与光电性能研究
MOCVD温度监测与均匀性研究
高温退火对直拉硅抛光片表面质量及氧沉淀的影响
ZnOSe合金薄膜的制备及p型掺杂研究
H、F掺杂ZnO透明导电薄膜的制备及其性能研究
用霍尔效应测试研究直拉单晶硅的电学性能
硅基SnO2异质结器件的电致发光及其增强策略的研究
光伏多晶硅片多线切割机理与工艺的研究
微波焙烧含锗氧化锌烟尘回收锗的研究
新型微电子IC晶圆清洗方法的研究
敏感陶瓷溅射金属化机制及产业化研究
微秒脉冲激光制备黑硅材料的研究
上一页
[42]
[43]
[44]
[45]
[46]
下一页
