| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-11页 |
| 第二章 文献综述 | 第11-29页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第11-14页 |
| ·晶体结构 | 第11-12页 |
| ·能带结构 | 第12-13页 |
| ·ZnO中的缺陷 | 第13页 |
| ·ZnO的光学性质 | 第13-14页 |
| ·ZnO的能带工程 | 第14-24页 |
| ·基于等价阳离子替代的能带工程 | 第15-21页 |
| ·基于等价阴离子替代的能带工程 | 第21-24页 |
| ·ZnO的p型掺杂 | 第24-28页 |
| ·Ⅰ族元素的掺杂 | 第24-26页 |
| ·Ⅴ族元素的掺杂 | 第26-27页 |
| ·施主-受主共掺 | 第27-28页 |
| ·立题背景和主要研究内容 | 第28-29页 |
| 第三章 实验原理及工艺 | 第29-35页 |
| ·磁控反应溅射法 | 第29-33页 |
| ·磁控反应溅射的基本原理 | 第29-31页 |
| ·磁控溅射系统简介 | 第31-33页 |
| ·实验工艺过程 | 第33-34页 |
| ·衬底清洗 | 第33页 |
| ·薄膜制备过程 | 第33-34页 |
| ·薄膜表征方法 | 第34-35页 |
| 第四章 ZnS薄膜的制备及性能研究 | 第35-43页 |
| ·ZnS薄膜的制备与表征 | 第35-37页 |
| ·ZnS薄膜的结构和性能 | 第37-42页 |
| ·ZnS薄膜的形貌 | 第37页 |
| ·ZnS薄膜的化学成分和晶体结构 | 第37-40页 |
| ·ZnS薄膜的光学性能 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第五章 ZnOS合金薄膜的制备及性能研究 | 第43-61页 |
| ·ZnOS合金薄膜的制备 | 第43-51页 |
| ·正交试验参数摸索 | 第44-47页 |
| ·氧分压对ZnOS合金成分的影响 | 第47-49页 |
| ·衬底温度对ZnOS合金成分的影响 | 第49-51页 |
| ·ZnOS合金薄膜结构与光学性能 | 第51-59页 |
| ·ZnOS合金薄膜的形貌 | 第51-53页 |
| ·ZnOS合金薄膜的结构 | 第53-55页 |
| ·ZnOS合金薄膜化学状态 | 第55-56页 |
| ·ZnOS合金薄膜的光学性能 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第六章 S-N共掺杂p型ZnO薄膜的制备及性能研究 | 第61-73页 |
| ·S-N共掺杂ZnO薄膜的制备 | 第61-64页 |
| ·以N_2为N源制备S-N共掺杂ZnO薄膜 | 第62-64页 |
| ·以N_2O为N源制备S-N共掺杂ZnO薄膜 | 第64页 |
| ·N_2O分压对薄膜结构和性能的影响 | 第64-69页 |
| ·衬底温度对薄膜结构和性能的影响 | 第69-71页 |
| ·本章小结 | 第71-73页 |
| 第七章 结论 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 个人简历 | 第82-83页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第83页 |