NiO薄膜的制备及其掺杂技术研究

摘要	第1-5页
ABSTRACT	第5-6页
目录	第6-7页
第一章 引言	第7-11页
·课题研究意义	第7-8页
·NiO的结构	第8-9页
·NiO薄膜的研究现状	第9-10页
·本论文的研究工作	第10-11页
第二章 薄膜的制备方法	第11-19页
·磁控溅射	第11-12页
·脉冲激光沉积	第12-13页
·喷雾热分解法	第13-14页
·溶胶-凝胶法	第14-15页
·化学气相沉积	第15-17页
·原子层外延生长法	第17页
·分子束外延技术	第17-19页
第三章 实验设备及原理	第19-25页
·实验装置	第19页
·基本原理	第19-23页
·实验步骤	第23-25页
第四章 未掺杂的NiO薄膜的制备及其性质研究	第25-36页
·未掺杂NiO陶瓷靶的制备	第25-26页
·衬底的清洗	第26-27页
·射频磁控直接制备未掺杂的NiO薄膜	第27-32页
·射频磁控反应制备未掺杂的NiO薄膜	第32-36页
第五章 NiO薄膜掺杂技术研究	第36-42页
·掺杂的功能	第36页
·NiO薄膜掺杂元素的选择的理论研究	第36-37页
·Mg掺杂NiO薄膜制备和性质研究	第37-42页
第六章 结论	第42-43页
硕士期间的主要研究工作以及取得的研究成果	第43-44页
致谢	第44-45页
参考文献	第45-47页