| 致谢 | 第1-8页 |
| 摘要 | 第8-9页 |
| ABSTRACT | 第9-12页 |
| 插图清单 | 第12-14页 |
| 表格清单 | 第14-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-26页 |
| ·太赫兹科学与太赫兹真空电子器件 | 第15页 |
| ·太赫兹高频结构的工艺要求 | 第15-16页 |
| ·微细加工技术与 UV-LIGA | 第16-21页 |
| ·制备高深宽比微结构的 MEMS 微加工技术 | 第16-19页 |
| ·国外 UV-LIGA 光刻工艺的发展现状 | 第19-20页 |
| ·国内 UV-LIGA 光刻工艺的研究水平 | 第20-21页 |
| ·太赫兹真空电子器件的微加工 | 第21-24页 |
| ·国外太赫兹真空电子器件的加工进展 | 第21-23页 |
| ·国内太赫兹真空电子器件的加工进展 | 第23-24页 |
| ·学位论文的主要内容 | 第24-26页 |
| 第二章 UV-LIGA 工艺基础知识及优化理论 | 第26-41页 |
| ·基于 SU-8 胶的 UV-LIGA 光刻工艺原理 | 第26-27页 |
| ·UV-LIGA 光刻工艺基础 | 第27-35页 |
| ·基片的表面预处理 | 第27-29页 |
| ·涂胶 | 第29-32页 |
| ·光刻胶的热处理 | 第32-33页 |
| ·曝光 | 第33-34页 |
| ·显影与坚膜 | 第34-35页 |
| ·工艺优化理论 | 第35-39页 |
| ·实验设计 | 第35-36页 |
| ·田口式正交表实验设计 | 第36-39页 |
| ·UV-LIGA 实验的优化方案 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第三章 太赫兹器件单光栅结构光刻工艺实验研究 | 第41-59页 |
| ·94 GHz 单光栅结构光刻工艺实验研究 | 第41-54页 |
| ·预处理工艺步骤的优化 | 第42-48页 |
| ·94 GHz 光栅结构的优化实验 | 第48-50页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第50-52页 |
| ·94 GHz 光栅结构的再优化 | 第52-54页 |
| ·300 GHz 单光栅结构光刻工艺实验研究 | 第54-58页 |
| ·300 GHz 光栅结构的优化实验 | 第55-56页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第56-57页 |
| ·300 GHz 光栅结构的再优化 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第四章 太赫兹器件双光栅结构光刻工艺实验研究 | 第59-72页 |
| ·预处理工艺步骤优化 | 第59-62页 |
| ·厚胶膜内应力的优化 | 第62-64页 |
| ·300 GHz 双光栅结构的优化实验 | 第64-71页 |
| ·300 GHz 双光光栅结构的正交优化实验 | 第64-65页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第65-68页 |
| ·300 GHz 双光栅结构的再优化 | 第68-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第五章 总结与展望 | 第72-74页 |
| ·工作总结 | 第72-73页 |
| ·不足与展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 | 第78-79页 |