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GaSb欧姆接触制备及电学特性研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-6页
目录第6-7页
第一章 绪论第7-16页
   ·引言第7-8页
   ·锑化物半导体激光器研究进展第8-12页
   ·锑化物表面钝化的研究进展第12-14页
   ·锑化物欧姆接触研究进展第14-15页
   ·本论文的主要工作第15-16页
第二章 表面硫钝化技术研究第16-20页
   ·表面态第16-17页
   ·表面态对半导体器件的影响第17页
   ·Ⅲ-Ⅴ族半导体表面钝化介绍第17页
   ·GaSb表面硫钝化技术研究第17-20页
第三章 金属—半导体接触第20-36页
   ·功函数第20-21页
   ·电势差第21-22页
   ·表面态第22-24页
   ·电流传输机理第24-33页
   ·GaSb基半导体欧姆接触第33-36页
第四章 GaSb钝化实验及结果分析第36-41页
   ·GaSb的钝化方法以及钝化溶液的选择第36页
   ·实验方案第36页
   ·仪器介绍第36-38页
   ·实验结果及分析第38-41页
第五章 GaSb欧姆接触制备及特性研究第41-54页
   ·欧姆接触设计方案第41页
   ·实验仪器第41-46页
   ·欧姆接触实验过程第46-48页
   ·GaSb基欧姆接触表面形貌的分析第48-49页
   ·Ⅰ-Ⅴ测量及GaSb欧姆接触电阻率计算第49-54页
第六章 结论与展望第54-55页
致谢第55-56页
参考文献第56-60页

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