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PMOCVD生长InAIN的计算流体动力学模拟研究

摘要第1-4页
Abstract第4-5页
目录第5-7页
第一章 绪论第7-17页
   ·InAlN 材料研究背景及潜在优势第7-9页
   ·InAlN 材料的研究进展第9-13页
     ·国外研究进展第9-12页
     ·国内研究进展第12-13页
   ·CFD 仿真的研究意义和现状第13-14页
   ·本文研究内容第14-17页
第二章 InAlN 材料特性与生长技术第17-27页
   ·InAlN 材料基本特性第17-19页
     ·晶格结构第17-18页
     ·材料特性第18-19页
   ·材料生长的关键技术第19-22页
     ·AlN 的 MOCVD 生长第19-20页
     ·InN 的 MOCVD 生长第20-21页
     ·InAlN 的 MOCVD 生长第21-22页
   ·InAlN 生长的 PMOCVD 技术第22-26页
     ·PMOCVD 工艺原理第22-24页
     ·PMOCVD 生长工艺技术第24-26页
   ·本章小结第26-27页
第三章 计算流体动力学理论基础第27-39页
   ·CFD 的基本方程第27-30页
     ·基本方程最一般形式第27-28页
     ·柱坐标系中的基本方程第28-30页
   ·FLUENT 仿真软件第30-34页
     ·FLUENT 的功能模块第30-31页
     ·FLUENT 的分析过程第31-34页
   ·UDF 模块第34-37页
     ·FLUENT 脉冲的加入—FLUENT 的 UDF 功能第34-35页
     ·UDF 函数的编写第35-37页
   ·本章小结第37-39页
第四章 PMOCVD 生长 InAlN 的 FLUENT 模拟仿真第39-61页
   ·PMOCVD 反应室第39-40页
   ·脉冲波形的实现第40-43页
     ·脉冲函数文件第40-43页
     ·FLUENT 脉冲波形第43页
     ·实验脉冲时序图第43页
   ·模拟的基准条件第43-47页
     ·不同周期密度场分布第44页
     ·不同周期压强分布第44-45页
     ·不同周期速度分布第45-46页
     ·不同周期温度分布第46-47页
   ·连续与脉冲的 FLUENT 模拟结果对比分析第47-48页
   ·单工艺参数变量的 FLUENT 模拟研究第48-60页
     ·温度对流场分布的影响第48-52页
     ·压强对流场分布的影响第52-56页
     ·TMIn 脉冲宽度对流场分布的影响第56-60页
   ·本章小结第60-61页
第五章 本文的工作总结第61-63页
致谢第63-65页
参考文献第65-71页
攻读硕士研究生期间的研究成果第71-72页

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