| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-18页 |
| ·稀磁半导体简介 | 第8-12页 |
| ·稀磁半导体概述 | 第8-9页 |
| ·稀磁半导体的制备工艺 | 第9-11页 |
| ·稀磁半导体磁性来源机理 | 第11-12页 |
| ·ZNO 基稀磁半导体材料概述 | 第12-16页 |
| ·ZnO 的结构特征及应用 | 第12-13页 |
| ·ZnO 基稀磁半导体的理论研究进展 | 第13-14页 |
| ·ZnO 基稀磁半导体的实验研究进展 | 第14-16页 |
| ·MN 掺 ZNO 基稀磁半导体的研究意义 | 第16-17页 |
| ·论文主要工作 | 第17-18页 |
| 第2章 薄膜样品制备及表征方法 | 第18-32页 |
| ·实验装置及设备技术参数 | 第18-19页 |
| ·磁控溅射法 | 第18页 |
| ·高温真空管式炉 | 第18-19页 |
| ·分析表征仪器 | 第19-23页 |
| ·金相显微镜 | 第19-20页 |
| ·台阶仪 | 第20页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)与能谱仪(EDS) | 第20-21页 |
| ·拉曼散射仪(RAMAN) | 第21-22页 |
| ·X 射线衍射仪(XRD) | 第22-23页 |
| ·基片清洁 | 第23-24页 |
| ·基片比较 | 第24-28页 |
| ·基片表面观察 | 第24-26页 |
| ·基片表面数据分析 | 第26-28页 |
| ·实验中基片置放方式 | 第28-29页 |
| ·磁控溅射操作步骤 | 第29-32页 |
| 第3章 生长条件对 Mn 掺 ZnO 基稀磁半导体的影响 | 第32-56页 |
| ·影响薄膜性质的可控因素 | 第32-33页 |
| ·MN 掺 ZNO 基薄膜样品结构初步分析 | 第33-34页 |
| ·工作气压及基片对薄膜的结构影响 | 第34-39页 |
| ·MN 功率对薄膜结构的影响 | 第39-43页 |
| ·基片温度对薄膜的结构影响 | 第43-46页 |
| ·氩气流量对薄膜的结构影响 | 第46-49页 |
| ·转速对薄膜的结构影响 | 第49-51页 |
| ·退火温度对薄膜结构的影响 | 第51-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第4章 总结与展望 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 申请学位期间的研究成果及发表的学术论文 | 第63页 |