| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 目录 | 第10-13页 |
| 第一章 低维硅材料简介 | 第13-42页 |
| ·引言 | 第13页 |
| ·硅纳米晶体简介 | 第13-29页 |
| ·硅纳米晶体合成方法简介 | 第14-18页 |
| ·前驱体热解法 | 第14-17页 |
| ·液相还原前驱体法 | 第17-18页 |
| ·氢钝化硅纳米晶体的表面改性方法 | 第18-28页 |
| ·氢化硅烷化 | 第19-27页 |
| ·硅烷化 | 第27-28页 |
| ·氯钝化硅纳米晶体的表面改性方法 | 第28-29页 |
| ·硅烯简介 | 第29-40页 |
| ·硅烯的制备方法简介 | 第30-37页 |
| ·气相法制备硅烯 | 第30-36页 |
| ·液相法制备硅烯 | 第36-37页 |
| ·硅烯的氧化 | 第37-38页 |
| ·氢钝化硅烯的表面改性 | 第38-40页 |
| ·总结 | 第40-42页 |
| 第二章 密度泛函理论简介 | 第42-67页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·多粒子体系的从头计算法 | 第42-43页 |
| ·密度泛函理论 | 第43-47页 |
| ·密度泛函理论简介 | 第43-45页 |
| ·局域密度近似 | 第45-46页 |
| ·广义梯度近似 | 第46-47页 |
| ·赝势平面波方法和超软赝势方法 | 第47-49页 |
| ·投影缀加波方法 | 第49-50页 |
| ·本文用到的计算软件简介 | 第50-52页 |
| ·Materials Studio | 第50-52页 |
| ·Vienna Ab-initio Simulation Package | 第52页 |
| ·密度泛函研究在低维硅材料中的应用 | 第52-65页 |
| ·硅纳米晶体及其表面效应的密度泛函研究 | 第52-62页 |
| ·氢钝化硅纳米晶体的密度泛函研究 | 第54-56页 |
| ·氯钝化硅纳米晶体的密度泛函研究 | 第56-58页 |
| ·硅纳米晶体表面改性的密度学函研究 | 第58-62页 |
| ·硅烯及其氧化的密度泛函研究 | 第62-65页 |
| ·硅烯的密度泛函研究 | 第62-64页 |
| ·硅烯氧化的密度泛函研究 | 第64-65页 |
| ·总结 | 第65-67页 |
| 第三章 氢钝化硅纳米晶体的表面改性 | 第67-98页 |
| ·引言 | 第67-69页 |
| ·计算方法 | 第69-70页 |
| ·氢化硅烷化对1.4nm硅纳米晶体电子、光学性质的影响 | 第70-82页 |
| ·计算模型 | 第70页 |
| ·氢化硅烷化反应的热力学研究 | 第70-73页 |
| ·烯烃氢化硅烷化对1.4nm硅纳米晶体电子、光学性质的影响 | 第73-77页 |
| ·炔烃氢化硅烷化对1.4nm硅纳米晶体电子、光学性质的影响 | 第77-82页 |
| ·尺寸为0.8-1.6nm的氢化硅烷化硅纳米晶体的量子限域效应和表面化学效应研究 | 第82-91页 |
| ·计算模型 | 第82页 |
| ·烯烃氢化硅烷化对0.8-1.6nm硅纳米晶体电子性质的影响 | 第82-86页 |
| ·炔烃氢化硅烷化对0.8-1.6nm硅纳米晶体电子性质的影响 | 第86-91页 |
| ·氧化对氢化硅烷化硅纳米晶体电子、光学性质的影响 | 第91-97页 |
| ·计算模型 | 第91页 |
| ·氢化硅烷化硅纳米晶体氧化问题的热力学研究 | 第91-93页 |
| ·氧化对氢化硅烷化硅纳米晶体电子、光学性质的影响 | 第93-97页 |
| ·本章小结 | 第97-98页 |
| 第四章 氯钝化硅纳米晶体的表面改性 | 第98-107页 |
| ·引言 | 第98页 |
| ·模型和计算方法 | 第98-100页 |
| ·结果和讨论 | 第100-106页 |
| ·氯钝化硅纳米晶体表面改性的热力学研究 | 第100页 |
| ·表面改性对0.8nm硅纳米晶体电子性能的影响 | 第100-101页 |
| ·胺化反应对0.8nm硅纳米晶体电子性能的影响 | 第101-104页 |
| ·表面改性后的0.8-1.6nm硅纳米晶体的量子限域效应和表面化学效应研究 | 第104-106页 |
| ·本章小结 | 第106-107页 |
| 第五章 硅烯的氧化 | 第107-119页 |
| ·引言 | 第107-108页 |
| ·计算方法 | 第108页 |
| ·结果和讨论 | 第108-117页 |
| ·部分氧化的硅烯 | 第108-115页 |
| ·完全氧化硅烯的形成、结构及电子性能 | 第115-117页 |
| ·硅烯氧化物的计算结果与实验结果的对比分析 | 第117页 |
| ·本章小结 | 第117-119页 |
| 第六章 氢钝化硅烯的表面改性 | 第119-127页 |
| ·引言 | 第119页 |
| ·模型和计算方法 | 第119-121页 |
| ·模型 | 第119-120页 |
| ·计算方法 | 第120-121页 |
| ·结果与讨论 | 第121-125页 |
| ·氢钝化硅烯表面改性硅烯的热力学研究 | 第121页 |
| ·氢钝化硅烯及表面改性硅烯的几何结构 | 第121-122页 |
| ·氢钝化硅烯及表面改性硅烯的电子结构 | 第122-123页 |
| ·氢钝化硅烯和表面改性硅烯的光学性能 | 第123-125页 |
| ·本章小结 | 第125-127页 |
| 第七章 结论 | 第127-129页 |
| 参考文献 | 第129-139页 |
| 致谢 | 第139-141页 |
| 个人简历 | 第141-143页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第143页 |
