微秒脉冲激光制备黑硅材料的研究
| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 图录 | 第12-14页 |
| 表录 | 第14-15页 |
| 第1章 绪论 | 第15-35页 |
| ·硅材料应用现状 | 第15-18页 |
| ·硅太阳能电池 | 第16-17页 |
| ·硅红外探测器 | 第17-18页 |
| ·晶体硅表面织构化研究发展 | 第18-19页 |
| ·黑硅材料 | 第19-33页 |
| ·黑硅的发现 | 第19-21页 |
| ·黑硅材料的制备方法 | 第21-28页 |
| ·飞秒激光扫描法制备黑硅 | 第21-25页 |
| ·湿法腐蚀制备黑硅 | 第25-27页 |
| ·反应粒子刻蚀法制备黑硅 | 第27-28页 |
| ·黑硅的光学性能研究 | 第28-31页 |
| ·黑硅的应用 | 第31-33页 |
| ·课题的研究意义和主要内容 | 第33-35页 |
| 第2章 激光简介及其与固体物质相互作用 | 第35-42页 |
| ·激光器的介绍 | 第35-36页 |
| ·激光器组成 | 第35-36页 |
| ·激光应用 | 第36页 |
| ·激光的重要性能参数 | 第36页 |
| ·激光与物质相互作用的物理机制 | 第36-41页 |
| ·激光与物质相互作用过程 | 第37-38页 |
| ·激光的吸收和加热物理基础 | 第38-39页 |
| ·激光脉冲宽度对相互作用的影响 | 第39-41页 |
| ·激光的能量密度对相互作用的影响 | 第41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第3章 黑硅的制备及测试方法 | 第42-49页 |
| ·实验装置 | 第42-45页 |
| ·激光加工系统 | 第42-44页 |
| ·真空腔系统 | 第44-45页 |
| ·黑硅的制备流程 | 第45-47页 |
| ·实验样品准备 | 第45-46页 |
| ·微秒脉冲激光制备黑硅的实验步骤 | 第46-47页 |
| ·测试方法 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第4章 黑硅形貌特性研究 | 第49-71页 |
| ·各实验参数对形貌的影响 | 第49-66页 |
| ·微秒脉冲激光扫描制备的黑硅形貌 | 第49-50页 |
| ·工作气氛对形貌的影响 | 第50-52页 |
| ·SF_6气体压强对形貌的影响 | 第52-53页 |
| ·激光累积辐照脉冲数对形貌的影响 | 第53-55页 |
| ·激光扫描速度和扫描间距对形貌的影响 | 第55-57页 |
| ·激光能量密度对形貌的影响 | 第57-60页 |
| ·激光重复频率对形貌的影响 | 第60-62页 |
| ·激光脉冲宽度对形貌的影响 | 第62-64页 |
| ·硅片晶向和退火处理对形貌的影响 | 第64-66页 |
| ·正交试验分析 | 第66-69页 |
| ·正交试验法 | 第66-67页 |
| ·实验结果与分析 | 第67-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第5章 微结构的演变机制和光学性能探讨 | 第71-84页 |
| ·黑硅表面微结构的演变及机制探讨 | 第71-78页 |
| ·微结构演变过程 | 第71-73页 |
| ·微结构形成机制探讨 | 第73-78页 |
| ·黑硅的光学特性 | 第78-83页 |
| ·黑硅反射率测量结果 | 第78-81页 |
| ·低反射率机制探讨 | 第81-83页 |
| ·本章小结 | 第83-84页 |
| 第6章 总结与展望 | 第84-86页 |
| ·论文研究内容总结 | 第84-85页 |
| ·论文不足之处和未来工作 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-92页 |
| 作者简历及在校期间取得的科研成果 | 第92页 |
