| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| ·研究的背景及意义 | 第11-13页 |
| ·高数值孔径投影光刻物镜研究现状 | 第13-17页 |
| ·光学材料折射率均匀性研究现状 | 第17-21页 |
| ·ZERNIKE多项式 | 第21-23页 |
| ·本文主要研究内容及各章节安排 | 第23-25页 |
| 第2章 NA 0.75投影光刻物镜的优化设计 | 第25-35页 |
| ·投影光刻物镜的设计指标 | 第25-26页 |
| ·光源和镜片材料的选择 | 第26-28页 |
| ·NA0.75投影光刻物镜的优化设计 | 第28页 |
| ·设计结果及其分析 | 第28-35页 |
| 第3章 三维仿真和光线追迹方法 | 第35-55页 |
| ·三维仿真和光线追迹方法的数学模型 | 第35-44页 |
| ·编程实现 | 第44-50页 |
| ·三维仿真和光线追迹方法的仿真精度检验 | 第50-55页 |
| 第4章 光学材料折射率均匀性对投影光刻物镜的成像质量影响 | 第55-65页 |
| ·光学材料折射率均匀性的输入 | 第55-58页 |
| ·光学材料折射率均匀性对系统成像质量的影响 | 第58-62页 |
| ·结果分析 | 第62-65页 |
| 第5章 总结 | 第65-68页 |
| ·工作总结 | 第65-66页 |
| ·主要研究成果及创新性 | 第66页 |
| ·工作展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第72-73页 |
| 指导教师及作者简介 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |